اثر میدان مغناطیسی بر ناحیه غلاف در پلاسماهای ضعیف یونیزه

غلاف پلاسما مهمترین ناحیه در تخلیه های الکتریکی می باشد که لایه ای نازک با بارفضای مثبت در مجاورت کاتد است و هر جایی که پلاسما با سطح جامدات رسانا در تماس باشد وجود دارد. با توجه به کاربردهای مختلف پلاسما در صنایع گوناگون، مطالعات تئوری و تأثیر عوامل گوناگون بر این ناحیه لازم و ضروری می باشد که در بخش تئوری مهترین مسئله دینامیک یون ها است. در این کار ابتدا به توصیف تخلیه های الکتریکی که معمول ترین روش برای تولید پلاسماهای آزمایشگاهی است پرداخته می شود، سپس غلاف پلاسما و انواع آن مورد بررسی قرار می گیرد. در ادامه مروری بر کارهای قبلی که با فرض توزیع بولتزمن برای الکترون ها و غیرفعال بودن پلاسمای مورد بررسی می باشد، صورت می گیرد و سپس دینامیک ذرات در یک پلاسمای فعال با در نظر گرفتن اثر عواملی همچون میدان مغناطیسیِ خارجی، برخوردهای یون-خنثی و الکترون-خنثی، یونیزاسیون و دمای یونی با استفاده از سری کامل معادلات مدل شاره به کمک تکنیک های محاسبات عددی مورد بررسی قرار می گیرد و تغییر پارامتر های مختلف مورد مطالعه قرار می گیرد. تفاوت عمده ی این کار با کارهای قبلیِ انجام شده در استفاده ی کمتر از تقریب ها، فعال بودن پلاسما و فرض غیر ماکسولی بودن توزیع الکترون ها می باشد. نتایج به دست آمده در بهینه سازی کاربرد های پلاسما و تخلیه های الکتریکی از جمله کند و پاش و کاشت یون اهمیت بسزایی دارد.