اعمال پوشش tio2 بر سطح تیتانیم به روش پلاسمای الکترولیتی تخلیه تابناک و بررسی مقاومت به خوردگی وسختی آن و بهینه سازی این خواص به روش تاگوچی

در این تحقیق از روش پلاسمای الکترولیتی کاتدی تخلیه تابناک به عنوان یک ش یوه کاملاً جد ید برای تولید پوشش اکسید تیتانیم بر سطح تیتانیم خالص تجار ی استفاده شده است،از فولاد ضدزنگ به عنوان آند استفاده شده است.فرایند با استفاده از ترانسفورماتور تولی د جری ان مستق یم و درالکترولیت کربنات سدیم انجام شده است.ساختار فازی و مورفولوژی لایه تشکیل شده بر سطح به ترتیب با xrd و sem بررسی شده است.تاثیر متغیر های فرایند از جمله غلظت الکترولیت،نسبت سطح آند به کاتد،فاصله آند تا کاتد و زبری سطح و زمان بر ولتاژ تخلی ه ،سختی سطح و مقاومت به خوردگی پوشش با استفاده از روش تاگوچی بررسی شده است .اندازه گی ری ولتاژ تخلیه و سختی به ترتیب با مولتی متردیجیتال و دستگاه میکروسختی سنج ویکرز انجام شد ه است. آزمایش های پلاریزاسیونپتانسیواستاتیک و امپدانس با استفاده از دستگاه پتانسو استات انجام شده است.نتایج نشان میدهد که با افزایش غلظت الکترولیت، ولتاژ تخلیه کاهش داشته است .با غلظت سختی کم شده است و با افزایش زمان عملیات، سخت ی افزا یش داشته است .با افزا یش زبری سطح نسبت سطحی آند به کاتد و غلظت الکترولیت،مقاومت پلاریزاسیون افزا یش یافته و باافزایش زمان عملیات،مقاومت پلاریزاسیون ابتدا افزایش داشته و سپس در بالاترین سطح زمان، کم شده است.