شبیه سازی لایه نشانی شیمیایی بخار در رآکتور استوانه ای با فشار اتمسفر

لایه نشانی شیمیایی بخار یک ماده ی پلیمری (پلی کربوسیلان) در یک رآکتور استوانه ای و در فشار جو با استفاده از گاز آرگون، به عنوان گاز حامل، برای تولید فیلم نازک سیلیکون کرباید، شبیه سازی شده است. شبیه سازی به صورت عددی و با به کارگیری روش حجم محدود، انجام شده است. تاثیر پارامترهای کسرجرمی ورودی، عدد رینولدز ورودی، دمای زیرلایه، فاصله ی زیرلایه از ورودی، دمای دیواره ی رآکتور، دمای مخلوط ورودی، و فاصله ی زیرلایه از محور مرکزی رآکتور، بر سرعت لایه نشانی، مورد بررسی قرار گرفتند. با استفاده از نتایج حاصله از مطالعه ی پارامتری، طرح آزمایش برای رآکتور مدل شده، صورت پذیرفت و شدت تاثیر تمام پارامترها بر سرعت لایه نشانی شیمیایی بخار، با انجام طراحی آزمایش دو سطحی، مورد ارزیابی قرار گرفت. با انجام طراحی آزمایش دو سطحی و انتخاب موثرترین پارامترها، طراحی آزمایش، به صورت سه سطحی و با پارامترهای انتخابی، انجام شد. پس از انجام مراحل فوق، کسر جرمی مخلوط ورودی، به عنوان موثر ترین پارامتر بر سرعت لایه نشانی به دست آمد. پس از کسر جرمی ورودی، عدد رینولدز ورودی و فاصله ی زیرلایه از ورودی، بیشترین تاثیر را بر سرعت لایه نشانی سیلیکون کرباید دارند. کسر جرمی ورودی و عدد رینولدز، با سرعت لایه نشانی، نسبت مستقیم، و فاصله ی زیرلایه از ورودی، با سرعت لایه نشانی، نسبت عکس دارد.