حذف 2و4- دی کلروفنل توسط لکاز تثبیت شده بر سیلیکای نانوحفره در راکتور با دو جریان برخورد کننده

در این مطالعه حذف 2و4 – دی کلروفنل توسط آنزیم لکاز آزاد و تثبیت شده بر سیلیکای نانوحفره در حالت ناپیوسته همزن دار و بدون همزن و نیز راکتور با دو جریان برخورد کننده انجام گرفت. نتایج نشان داد که میزان حذف اولیه 2و4 – دی کلروفنل توسط آنزیم آزاد در راکتور بیشتر از حالت همزن دار و بدون همزن است. همچنین سرعت حذف درشرایط همزن دار بیشتر از شرایط بدون همزن بود. سپس لکاز بر سیلیکای نانو حفره به روش جذب سطحی و کوالانسی تثبیت گردید. میزان بارگذاری لکاز در جذب سطحی u/g 300 و برای کوالانسی u/g 545 حاصل شد. حذف نهایی توسط لکاز تثبیت جذب سطحی شده و تثبیت کوالانسی شده به ترتیب برابر 9/59% و 52% شد. میزان حذف نهایی برای لکاز تثبیت کوالانسی شده تحت شرایط بدون همزن 3/27% گزارش شد. حذف نهایی توسط آنزیم تثبیت کوالانسی شده در راکتور با دو جریان برخورد کننده 65% بوده است که این میزان 1200برابر نسبت به شرایط بدون همزن بیشتر است. بنابر این سرعت حذف توسط لکاز تثبیت شده در راکتور با دو جریان برخورد کننده بهترین نتیجه را بدست داده است.