شبیهسازی رشد لایههای نازک در حضور ذرات فعال و ناخالصی
Authors
Abstract:
در این مقاله در چارچوب مدل انباشت بالستیک به شبیهسازی رشد لایههای نازک در حضور دو نوع ذره فعال (A) و ناخالصی(C) میپردازیم و نمای مقیاسی رشد و نمای مقیاسی زبری را بهدست میآوریم و آنها را با کلاس جهانی ارائه شده توسط کاردار-پاریزی-ژانگ (KPZ) مقایسه میکنیم. نتایج بهدستآمده وجود یک احتمال بحرانی را نشان میدهند، بهگونهای که بهازای مقادیر کوچکتر از ، مدل انباشت مورد نظر ما در کلاس جهانی KPZ قرار میگیرد، درحالیکه بهازای مقادیر بزرگتر از مدل مطالعه شده در این مقاله از کلاس جهانی KPZ تبعیت نمیکند.
similar resources
شبیه سازی رشد لایه های نازک در حضور ذرات فعال و ناخالصی
در این مقاله در چارچوب مدل انباشت بالستیک به شبیه سازی رشد لایه های نازک در حضور دو نوع ذره فعال (a) و ناخالصی(c) می پردازیم و نمای مقیاسی رشد و نمای مقیاسی زبری را به دست می آوریم و آن ها را با کلاس جهانی ارائه شده توسط کاردار-پاریزی-ژانگ (kpz) مقایسه می کنیم. نتایج به دست آمده وجود یک احتمال بحرانی را نشان می دهند، به گونه ای که به ازای مقادیر کوچکتر از ، مدل انباشت مورد نظر ما در کلاس جها...
full textبررسی تغییر در شکل و اندازه ذرات نانورنگدانه قرمز مالاییت با ناخالصی کرم با تغییر میزان ناخالصی
در این پژوهش رنگدانه مالاییت با ناخالصی کرم (CaSn(1-x)CrxSiO5) به عنوان رنگدانه سرامیکی قرمز به روش سرامیکی در دمای 1250 درجه سانتیگراد ساخته شد. چهار نمونه با نسبتهای مولی ناخالصی کرم به میزان 0.005، 0.0075، 0.01 و 0.02 ساخته شده و با استفاده از آسیاب سیارهای درون حلال 2- اتیلهگزیلاستئارات پخش و همگن گردید. سپس به روش چاپ تخت بر روی سرامیک تحت شرایط تولید صنعتی چاپ شد. رنگدانههای پخششده...
full textDegenerate Four Wave Mixing in Photonic Crystal Fibers
In this study, Four Wave Mixing (FWM) characteristics in photonic crystal fibers are investigated. The effect of channel spacing, phase mismatching, and fiber length on FWM efficiency have been studied. The variation of idler frequency which obtained by this technique with pumping and signal wavelengths has been discussed. The effect of fiber dispersion has been taken into account; we obtain th...
full textباز توزیع ناخالصی آرسنیک (As) در رشد گرمایی و سرعت رشد اکسید سیلیسیم
In this article, we investigate the redistribution of implanted As+ ion and effect of it on the rate of oxide growth during steam oxidation of Si wafers at 900oC. Our results show that a highly enriched, thin layer of Arsenic forms at the interface between the oxide and the underlying Si. Also, the oxidation rate was found to increase depending on the depth distribution and dose of the implant...
full textمطالعه رسانندگی و اختلاف سطح الکتریکی در لایه های نازک چند بلوری CuInTe2 و CuInSe2 همراه با ناخالصی اندیم
مواد CuInTe2 و CuInSe2 از نوع مثبت (P ) چند بلوری هستند که با افزودن درصدی اندیم به ترکیب عنصری این مواد، قابلیت رسانندگی آنها افزایش می یابد. با تغییر ضریبهای هال RH<...
full textMy Resources
Journal title
volume 3 issue 5
pages 1- 8
publication date 2013-06-22
By following a journal you will be notified via email when a new issue of this journal is published.
Hosted on Doprax cloud platform doprax.com
copyright © 2015-2023