تاثیر استفاده از پیش پالس و هدف نانوساختار بر میزان گسیل پرتو ایکس از پلاسمای تولید شده به وسیله لیزرهای پرتوان

در این مقاله تأثیر استفاده از پیش پالس لیزری بر میزان افزایش پرتو ایکس ترمزی از اهداف فلزی نانو ساختار تحت تابش پالس لیزری پرتوان بررسی می شود. میزان گسیل پرتو ایکس از اهداف معمولی و نانو ساختار مقایسه شده است. محاسبات نشان می دهند که با انتخاب یک چگالی مناسب برای لایه نانویی، میزان تابش پرتو افزایش قابل توجهی خواهد داشت. همچنین استفاده از یک پیش پالس لیزری با شدت و فاصله زمانی مناسب نسبت به پالس اصلی می تواند موجب افزایش بیشتر تابش پرتو از هدف نانو ساختار شود. هنگامی که شدت پیش پالس از یک مقدار مشخص (1013w/cm2) بیشتر شود، فرآیند افزایش، تضعیف خواهد شد. تأثیر فاصله زمانی بین پیش پالس و پالس اصلی نیز بررسی شده است.