The Fabrication of Nanostructures on Polydimethylsiloxane by Laser Interference Lithography

نویسندگان
چکیده

برای دانلود باید عضویت طلایی داشته باشید

برای دانلود متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

Fabrication and Optical Characterization of Silicon Nanostructure Arrays by Laser Interference Lithography and Metal-Assisted Chemical Etching

In this paper metal-assisted chemical etching has been applied to pattern porous silicon regions and silicon nanohole arrays in submicron period simply by using positive photoresist as a mask layer. In order to define silicon nanostructures, Metal-assisted chemical etching (MaCE) was carried out with silver catalyst. Provided solution (or materiel) in combination with laser interference lithogr...

متن کامل

Investigation on fabrication of nanoscale patterns using laser interference lithography.

Nanoscale patterns are fabricated by laser interference lithography (LIL) using Lloyd's mirror interferometer. LIL provides a patterning technology with simple, quick process over a large area without the usage of a mask. Effects of various key parameters for LIL, with 257 nm wavelength laser, are investigated, such as the exposure dosage, the half angle of two incident beams at the intersectio...

متن کامل

control of the optical properties of nanoparticles by laser fields

در این پایان نامه، درهمتنیدگی بین یک سیستم نقطه کوانتومی دوگانه(مولکول نقطه کوانتومی) و میدان مورد مطالعه قرار گرفته است. از آنتروپی ون نیومن به عنوان ابزاری برای بررسی درهمتنیدگی بین اتم و میدان استفاده شده و تاثیر پارامترهای مختلف، نظیر تونل زنی(که توسط تغییر ولتاژ ایجاد می شود)، شدت میدان و نسبت دو گسیل خودبخودی بر رفتار درجه درهمتنیدگی سیستم بررسی شده اشت.با تغییر هر یک از این پارامترها، در...

15 صفحه اول

Fabrication of high-density nanostructures by electron beam lithography*

We demonstrate a fabrication method to define high-density, uniform nanostructures by electron beam lithography at conventional beam voltages ~,40 kV!. Here we optimize the exposure and development conditions needed to generate such nanostructure arrays using polymethylmethacrylate as positive resist and isopropyl alcohol as a developer. Arrays of 12 nm dots with 25 nm period and 20 nm lines wi...

متن کامل

Fabrication of metallic nanowires and nanoribbons using laser interference lithography and shadow lithography.

Ordered and free-standing metallic nanowires were fabricated by e-beam deposition on patterned polymer templates made by interference lithography. The dimensions of the nanowires can be controlled through adjustment of deposition conditions and polymer templates. Grain size, polarized optical transmission and electrical resistivity were measured with ordered and free-standing nanowires.

متن کامل

ذخیره در منابع من


  با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ژورنال

عنوان ژورنال: Nanomaterials

سال: 2019

ISSN: 2079-4991

DOI: 10.3390/nano9010073