در این پژوهش نانو لایه های نازک ایندیم تین اکسید(( ito توسط تکنیک سل- ژل و به روش غوطه وری تهیه شدند. برای تهیه سل معمولا از نمک قلع(vi) استفاده می شود، ولی از آنجایی که استفاده از نمکهای قلع(ii) مقرون به صرفه تر است، در این تحقیق از ترکیبات اگزالات قلع(ii) و ایندیم فلزی به عنوان مواد اولیه و h2o2 و i2 به عنوان ترکیبات اکسنده استفاده شد. بر اساس نتایج بدست آمده، اکسیداسیون با ترکیب ید نسبت به ترکیب آب اکسیژنه نتایج بهتری را به همراه داشت. سپس لایه های تهیه شده جهت بهبود خواص، در دماها و زمانهای مختلف تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. مورفولوژی سطحی، خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی لایه ها توسط بررسی های sem، xrd، طیف سنجیvis uv-و سیستم چهارترمینالی مورد بررسی قرار گرفت.. لایه های تهیه شده در دمای 550 درجه سانتیگراد دارای کمترین میزان مقاومت الکتریکی، (sq/? 104× 3,4) و بیشترین میزان عبور نور در ناحیه ی uv-vis (درحدود87%) می باشد. طیف xrd تولید ساختار بلور ی itoرا تایید نمود. همچنین با بررسی لایه های بدست آمده که در زمانهای گرمادهی30، 45 و 60 دقیقه تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند، مشاهده شد که در زمان های گرمادهی بالاتر (60 دقیقه)، مقاومت لایه کاهش می یابد، اما از آنجا که عبور نور لایه از افزایش زمان گرمادهی، کمی تاثیر منفی می پذیرد و کاهش می یابد، لذا زمان گرمادهی بهینه کمی کمتر (حدود 45 دقیقه ) گزارش می شود.