نام پژوهشگر: جعفر نظامدوست
شکوه حسن سقا عبدالعلی ذوالانواری
بدلیل کاربردهای فراوان لایه نازک نقره در صنایع مختلف و بویژه پزشکی، مطالعه ی این ماده اهمیت فراوانی یافته است. با توجه به اینکه تنش باقیمانده، ناشی از فرایند انباشت لایه های نازک عاملی مهم در تعیین کارایی و نارسایی بسیاری از مواد می باشد، پرداختن به این ماده و بررسی تنش، امری اجتناب ناپذیر است. در این پایان نامه ساختار و خواص مکانیکی لایه نازک نقره که بر زیرلایه شیشه لایه نشانی شده، مورد مطالعه قرار گرفته است. در فصل اول، فرایند رشد لایه های نازک، مشخصات نقره و کاربردهای آن، تعاریفی در زمینه ی خواص مکانیکی و مروری بر تحقیقات گذشته آمده است. در فصل دوم و سوم روش های لایه نشانی و دستگاه های بکار گرفته شده در این تحقیق معرفی شده اند و در فصل بعدی به تجزیه و تحلیل نتایج و داده های تجربی پرداخته ایم. با استفاده از روش کندوپاش مگنترون، ذرات نقره بر روی زیرلایه شیشه انباشت شده و لایه هایی با ضخامت های 10، 20،40 ، 80 و100 نانومتر تهیه شده است. خواص لایه نازک نقره با استفاده از دستگاه ht-xrd در دمای اتاق و دماهای مختلف مورد بررسی قرار گرفته است. تنش پسماند برای نمونه در ضخامت های مختلف با استفاده از روش پراش اشعه ایکس اندازه گیری و نمودار آن رسم شده است. تنش برای نمونه با ضخامت 80 نانومتر و در دو حالت قبل و بعد از حرارت نمونه با روش مذکور اندازه گیری و با هم مقایسه شده اند. نتایج حاصل نشان می دهند که تنش در نمونه حرارت داده شده بطور قابل توجهی کاهش یافته است.