لایه های اکسید رسانای شفاف fto بدلیل عبور نور مرئی و رسانایی الکتریکی بالا, کاربردهای زیادی از جمله در سنسورهای گازی, دیودهای نور گسیل, ترانزیستورهای لایه نازک و بعنوان الکترود در سلولهای خورشیدی دارند. روشهای مختلفی برای ساخت fto ها وجود دارد که روش اسپری به علت سادگی, مقرون بصرفه بودن و قابلیت ساخت لایه ها بر روی زیرلایه های بزرگ مورد توجه پژوهش های زیادی قرار گرفته است. ما در این کار پژوهشی سعی کردیم لایه های نازک sno2:f(fto) را با استفاده از روش اسپری لایه نشانی کرده و با تغییر پارامترهای موثر بر خواص آن همانند حجم محلول, درصد آلایش, دمای زیرلایه و آهنگ لایه نشانی به شرایط بهینه بر حسب شرایط کار دست یابیم. مورفولوژی نانوساختارها و نحوه رشد آنها را توسط تصاویر , semساختار بلوری آنها را توسط آنالیز xrd و عناصر موجود در لایه ها را توسط آنالیز edxمورد بررسی قرار داده ایم. طیف عبور اپتیکی توسط دستگاه طیف سنج و مقاومت سطحی لایه ها بر حسب حجم محلول و آلایش و دمای زیرلایه توسط دستگاه چهار نقطه ای مورد بررسی قرار گرفت. بهترین لایه شفاف رسانا که دارای بالاترین ضریب عبور و کمترین مقاومت سطحی است بر حسب ضخامت, نمونه با ضخامت لایه 830 nm با مقاومت ویژه .cm?0.26×10 -3 و ضریب عبور اپتیکی60 % در محدوده طیف مرئی و بر حسب الایش f , نمونه با آلایش 1.2 hf و ضخامت 530 nm با مقاومت ویژه 1.19×10-3(?.cm) و عبور %86 بدست آمد. همچنین از نظر دمای زیرلایه, نمونه در دمای oc 390 کمترین مقاومت ویژه 1.13×10-3 (?.cm)و عبور %90 را داراست. نتایج ما در مقایسه با کارهای مشابه در چندسال اخیر قابل مقایسه و در برخی موارد نتایج بهتری بدست آمده است.