لایه¬ی نازک لایه¬ای از مواد است که ضخامت آن در گستره¬ی کسری ازیک نانومتر تا چند میکرومتر باشد و در¬واقع لایه¬های اتمی به دقت طراحی شده¬ای از انواع مواد اعم ازفلزات ، عایق¬ها و نیمرساناها هستند. نیترید آلومینیوم یکی ازمورد علاقه¬مند ترین نیمرساناهای ترکیبی گروه¬هایiii–v باداشتن ساختار تنگ پکیده ی شش گوشی وورتزیت توجه زیاد پژوهش¬گران را به خود جلب کرده است. روش¬های نهشت مختلفی برای تهیه یaln توسط پژوهش¬گران به کار رفته است همانند انباشت فاز بخار، نهشت به وسیله ی باریکه ی مولکولی( mbe) ، نهشت با لیزر پالسی وکندوپاش مگنترونی واکنشی. روش کندو پاش مگنترونی واکنشی از متداول¬ترین روش¬های به کارگیری نهشت بخار فیزیکی برای تهیه ی aln است، زیرا می¬توان aln با ارجح ترین جهت گیری را به دست آورد. در میان تکنیک¬های کندوپاش،کندوپاش مگنترونیdc تکنیکی صنعتی تر محسوب می¬شود، زیرا این روش برای رشد فیلم ها بر روی سطوح بزرگ زیرلایه با نرخ¬های نهشت بالا ودمای پایین زیرلایه وکنترل ¬ترکیب شیمیایی فیلم¬ها مناسب می باشد. در این تحقیق فیلم¬های نازکی از aln ازطریق سیستم کندوپاش مگنترونی واکنشی تحت تغییرات شرایط نهشت تهیه واثر تغییرات این پارامترها بر روی ویژگی های ساختاری لایه ها با استفاده از پراش پرتو ایکس xrd ) ) ودر صورت امکان میکروسکوپ الکترونی روبشی( sem ) بررسی خواهد شد.