در این تحقیق تلاش گردیده است تا به کاربرد های لیزر در سوراخ کاری سلول ها و بهره برداری از روش هایی همچون روش پرتاب لیزری اتصال الکتریکی (lfc) در فرآیند تولید سلول های فتوولتاییک پرداخته، این روش ها را با نرم افزار مرتبط شبیه سازی کرده، و تاثیرات مکانیکی لیزر بر روی سلول ها توسط نرم افزار مربوطه مورد بررسی قرار گیرد. یکی از روش هایی که می توان برای بهینه سازی این فرایند استفاده کرد، استفاده از روش المان محدود توسط نرم افزارهای آباکوس و انسیس می باشد. در این پروژه در مرحله اول توسط نرم افزار انسیس پارامترهای لیزر همانند مقدار انرژی تابشی لیزر و قطر لیزر را تغییر داده و توسط نرم افزار انسیس تنش ایجاد شده در دیواره داخلی سوراخ ایجاد شده ناشی از تابش لیزر، در هریک از حالات آن بدست می آید. در مرحله بعد در نرم افزار آباکوس و با استفاده از روش xfem که روشی جدید تر نسبت به روش المان محدود fem می باشد، مقادیر مختلف تنش های وارد در مرحله سوراخکاری بر روی سلول های فتوولتاییک اعم از سلول فتوولتاییک تک کریستالی با خواص همسانگرد و سلول فتوولتاییک چند کریستالی با خواص غیرهمسانگرد، جهت ایجاد اتصالات الکتریکی مناسب بر روی آن را شبیه سازی کرد. سپس با استفاده از مقدار ماکزیمم تنش های اصلی وارد بر آن و مقایسه آن با مقداری که موجب ترک برداشتن سلول و در نتیجه شکست می شود، حداکثر مقدار تنشی که می توان برای سوراخکاری سلول وارد کرد را بدست آورد.