تشکیل کمپلکس بین یک باز شیف سنتزی جدید و برخی یون های فلزات واسطه در حلال های اتانول، استونیتریل، دی متیل فرم آمید و دی متیل سولفوکسید با روش های اسپکتروفوتومتری و با استفاده از آنالیز فاکتور کاهش مرتبه(rafa)، مورد بررسی قرار گرفت. نسبت استوکیومتری برای کمپلکس های باز شیف با هر چهار فلز و در حلال های مختلف، 1:1 بدست آمد. آنالیز فاکتور تکاملی(efa) و روش تصویرسازی اورتوگونال(opa)، برای تفکیک پیک های همپوشانی شده و تعیین اجزای اصلی در نسبت های مولی مختلف استفاده شد. سپس نتایج مرحله ی اول (pca)rafa با نتایج حاصل از efa و opa مقایسه شد. نتایج این سه روش تطابق خوبی با هم داشته و نشان دادند که در همه ی سیستم ها دوجزء اصلی وجود دارد، یعنی همان لیگاند و کمپلکس. ثابت های تشکیل این کمپلکس ها با استفاده از rafa بر روی داده های اسپکتروفوتومتری تخمین زده شد. در این روش که ثابت پایداری هدف بهینه سازی است، وقتی سهم لیگاند از ماتریس داده های جذبی حذف می شود، مرتبه ی ماتریس یک عدد کاهش می یابد.در بررسی اثر یون فلزی بر ثابت پایداری، مشاهده شد که روند تغییر ثابت پایداری با سری ایروینگ- ویلیامز مطابقت دارد. اثر حلال نیز بر ثابت های پایداری مورد بررسی قرار گرفت. نتایج نشان داد که ثابت تشکیل در حلال با ثابت دی الکتریک بیشتر، کمتر از مقدار آن در حلال با ثابت دی الکتریک کمتر است.