در دهه های اخیر نقش نانو ساختارها خصوصا لایه های نازک در فناوری های الکترونیکی و مغناطیسی گسترش فراوانی یافته اند. لایه های نازک رسانا در این میان از اهمیت بالایی برخوردار بوده و بنابر این بررسی خواص ساختاری و الکتریکی این دسته از لایه های نازک از اهمیت بسزایی برخوردار است. در این تحقیق لایه ها و چندلایه ای های رسانا با روش های متداول انباشت تهیه شده اند و با استفاده از روشهای مختلف خواص ساختاری و الکتریکی آنها مورد بررسی قرار گرفته است. دستگاه های استفاده شده در این تحقیق پراش پرتو ایکس (xrd) برای مطالعه ی خواص ساختاری و مکانیکی و دستگاه چهار سوزنه ی مربعی برای بررسی خواص الکتریکی لایه های آماده شده می باشند. چهار نمونه ی بررسی شده چند لایه ای های ni/cu و ni/au بر روی زیرلایه ی سیلیسیوم با راستای ترجیحی (100) و تک لایه های ni بر روی ورقه ی نازک cu و al بر روی زیر لایه ی شیشه می باشد. نمونه ها ابتدا با دستگاه پراش اشعه ی ایکس بررسی شده اند و سپس با استفاده از دستگاه چهار سوزنه ی مربعی خواص الکتریکی آنها بررسی شده است. ضخامت تک لایه ی ni بر روی ورقه ی مس برابر 43 نانومتر و لایه+ al بر روی شیشه 58 نانومتر بوده و برای چند لایه ای ni/cu ضخامت لایه های نیکل و مس به ترتیب برابر 75، 15،75، 15و 75 نانومتر، و برای چند لایه ای ni/au ضخامت نیکل و طلا به ترتیب 35، 8، 35، 8 و 35 نانومتر اندازه گیری شده است. ارتباط میان خواص ساختاری لایه ها و خواص الکتریکی آنها بررسی شده است. در این بررسی وابستگی مقاومت الکتریکی لایه ها با اندازه اجزاء بلوری آنها به خوبی نشان داده شده است. همچنین تاثیر میزان بلوری بودن ساختار لایه ها به خوبی دیده می شود. مقاومت الکتریکی چند لایه ای ni/cu و ni/au بررسی شده است که مقاومت بسیار کم برای چند لایه ای با لایه ی جدا کننده ی طلا دیده شده است. در تک لایه ی al بر روی شیشه خواص الکتریکی در دماهای بازپخت نشان دهنده ی کاهش مقاومت الکتریکی است که ارتباط آن با اندازه ی بلورک ها و ساختار بلوری لایه ها توضیح داده شده است.