در این ‏تحقیق، لایه های نازک اکسید لانتانیوم منگنز آلاییده با استر‏انسیوم به روش اسپری پایرولیزیز بر روی بسترهای ‎ si(100) ‎ و کوارتز آمورف تهیه شده است. نخست، با تغییر نوع محلول اولیه کلریدی و نیتراتی، دمای بستر و گرمادهی نمونه ها در محیط های هوا و آرگون و بررسی خواص ساختاری، شرایط بهینه ساخت لایه های نازک‎ lamno3‎ بررسی شد. بررسی ها نشان می دهد که دمای بستر بهینه برای تهیه لایه های نازک نانوساختار اکسید لانتانیوم منگنز ‎550 ℃‎ است. هم چنین فاز پروسکایت راستگوشه تنها در لایه های گرمادهی شده در محیط آرگون مشاهده شد. در مرحله بعد با استفاده از پارامترهای بهینه‏، لایه های‎ ) 45/0 و30/0 ، 15/0 ،0/0 x= ( la1-xsrxmno3 تهیه شد‎‏ند. نتایج حاصل از الگوهای پراشی نشان داد نمونه های آلاییده دارای ساختار شبه مکعبی می باشند. نتایج اندازه گیری اثر هال نشان داد نمونه ها‏ی مورد مطالعه دارای رسانش نوع ‎n‎ می باشند، کمترین مقاومت سطحی برای نمونه ‎ 3/0x= مشاهده شد.

در این تحقیق، لایه های نازک نیمرسانای شفاف اکسید روی آلاییده با نیکل zno:ni) ) به روش اسپری پایرولیزیزیر روی بسترهای شیشه-ای تهیه شده اند. تأثیر ناخالصی نیکل بر روی خواص ساختاری، الکتریکی، اپتیکی، ترموالکتریکی و فوتورسانایی لایه های نازک zno) ) بررسی شد. نسبت¬های اتمی نیکل به روی (x=[ni]/[zn]) از 0/0 تا 12% در محلول اسپری تغییر داده شد. نتایج به¬دست آمده از آنالیز پراش پرتو-x تشکیل ساختار بس¬بلور ورتسایت با سمت گیری ارجح (002) را نشان داد. کمترین مقاومت سطحی برابر با (mω/sq.) 15/8 مربوط به نمونه zno:ni(0 at.%) و بالاترین چگالی حامل ها از مرتبه 1014 برای نمونه zno:ni (0 at.%) به¬دست آمد. اندازه¬گیری¬های اثر هال و سیبک رسانش نوع n در همه نمونه¬های لایه نشانی شده را نشان دادند. شفافیت اپتیکی لایه¬ها در محدوده 80 تا 95 % در ناحیه مرئی تغییر کرد. با افزایش سطح ناخالصی نیکل گاف نواری از 27/3 به 28/3 الکترون¬ولت افزایش یافت. هم¬چنین لایه های اکسید روی آلاییده به نیکل خواص فوتورسانایی بهتری نسبت به نمونه اکسید روی خالص از خود نشان دادند. میزان انرژی فعالسازی لایه های اکسید روی آلاییده به نیکل نسبت به نمونه اکسید روی خالص افزایش پیدا کرد.