روش های مختلفی برای حذف یا کاهش سختی آب وجود دارد که هر کدام دارای مزایا و معایبی هستند. در این میان فرایند نانوفیلتراسیون به علت سادگی و کارائی توجه زیادی را به خود جلب کرده و در حذف یون های مختلف مورد استفاده قرار گرفته است. یکی از روش های معمول برای تهیه غشاهای نانوفیلتراسیون، فرایند پلیمریزاسیون سحطی می باشد. در این تحقیق، روش پلیمریزاسیون سطحی، با استفاده از تری فتالویل کلراید و پارافنیلین دی آمین به عنوان مونومرهای واکنش دهنده برای تهیه پلی پارافینیلن تری فتالامید روی پایه اولترافیلتر پلی اترسولفونی مورد استفاده قرار گرفت. نتایج به دست آمده از بخش اول آزمایشاها نشان داد که شار آب خالص با افزایش پلی وینیل پیرولیدون به عنوان افزودنی حفره زا در غشا پایه افزایش یافته است و مقدار بهینه برای این افزودنی 2 درصد وزنی به دست آمد. پس از بررسی شرایط بهینه برای غلظت مونومرها، زمان واکنش و دمای فراوری که به ترتیب 3/0 درصد وزنی، 4 دقیقه و °c 70 به دست آمد، تأثیر سدیم لوریل اترسولفات، تری اتانول آمین لوریل اترسولفات و دی سدیم لارات سولفوسوکسینات به عنوان فعال کننده های سطحی آنیونی و کوکامید-mea ، پلی سوربات 20 و نونیل فنل به عنوان فعال کننده های سطحی غیریونی در هر دو فاز آبی و آلی بر روی عملکرد و ساختار غشای نانوفیلتر فیلم نازک مورد بررسی قرار گرفت. مشخصات و خواص غشاهای لایه نازک به دست آمده، با استفاده از atr- ir، sem و دستگاه نانوفیلتراسیون اندازه گیری شد. نتایج نشان دهنده کاهش تخلخل لایه های نازک در حضور فعال کننده های سطحی بود. این کاهش در حضور فعال کننده های سحطی غیریونی محسوس تر می باشد. همچنین افزودن فعال کننده های سطحی به محلول آبی نتایج عملکردی بهتری در مقایسه با افزودن آن ها به فاز آلی نشان داده است. با افزدون سدیم لوریل اتر سولفات در محلول های آبی و آلی، بهترین نتایج در پس دهی نمک و همچنین شار آب خالص در مقایسه با دو فعال کننده سطحی آنیونی دیگر به دست آمد. با این وجود، نونیل فنول به عنوان افزودنی در لایه نازک، بیشترین تأثیر بر مشخصات ساختاری و همچنین عملکردی غشا را در میان فعال کننده های سطحی غیریونی و آنیونی داشته است. تصاویر sem، لایه نازک متراکم و فشرده را برای لایه نازک حاوی فعال کننده سطحی در مقایسه با، بدون فعال کننده سطحی نشان می دهد.