در این تحقیق، لایه های نازک نیمرسانای شفاف اکسید روی آلاییده با نیکل zno:ni) ) به روش اسپری پایرولیزیزیر روی بسترهای شیشه-ای تهیه شده اند. تأثیر ناخالصی نیکل بر روی خواص ساختاری، الکتریکی، اپتیکی، ترموالکتریکی و فوتورسانایی لایه های نازک zno) ) بررسی شد. نسبت¬های اتمی نیکل به روی (x=[ni]/[zn]) از 0/0 تا 12% در محلول اسپری تغییر داده شد. نتایج به¬دست آمده از آنالیز پراش پرتو-x تشکیل ساختار بس¬بلور ورتسایت با سمت گیری ارجح (002) را نشان داد. کمترین مقاومت سطحی برابر با (mω/sq.) 15/8 مربوط به نمونه zno:ni(0 at.%) و بالاترین چگالی حامل ها از مرتبه 1014 برای نمونه zno:ni (0 at.%) به¬دست آمد. اندازه¬گیری¬های اثر هال و سیبک رسانش نوع n در همه نمونه¬های لایه نشانی شده را نشان دادند. شفافیت اپتیکی لایه¬ها در محدوده 80 تا 95 % در ناحیه مرئی تغییر کرد. با افزایش سطح ناخالصی نیکل گاف نواری از 27/3 به 28/3 الکترون¬ولت افزایش یافت. هم¬چنین لایه های اکسید روی آلاییده به نیکل خواص فوتورسانایی بهتری نسبت به نمونه اکسید روی خالص از خود نشان دادند. میزان انرژی فعالسازی لایه های اکسید روی آلاییده به نیکل نسبت به نمونه اکسید روی خالص افزایش پیدا کرد.