پوشش های سرامیکی و روش های اعمال آنها از دیر باز مورد توجه بوده است. برخی از پوشش های پر کاربرد سرامیکی مثل پوشش های فوتوکاتالیتیک بسیار حساس به حرارت هستند و طی عملیات پوشش دهی به علت دمای بالا تغییر ساختار داده و عملکردشان افت می کند. بنابراین استفاده از روشی که حرارت انتقالی به پوشش سرامیکی را کم کند، بسیار مورد توجه است. پاشش سرد یکی از روش های پوشش دهی است که نسبت به سایر روش های پاششی دمای پایینی دارد. در نتیجه حرارت انتقالی به پودر و زیرلایه در این روش بسیار کم است. از این رو، به نظر می رسد روش پاشش سرد برای پوشش دهی مواد حساس به حرارت سرامیکی مناسب باشد. دمای عملیاتی پایین روش پاشش سرد باعث می شود که ذرات پودر در حالت جامد به زیر لایه برخورد کنند. سرامیک ها موادی ترد هستند و ممکن است هنگام برخورد شکسته شوند و پوشش تشکیل نشود. بنابر این برای حل این مساله لازم است تا پودر مخصوصی تولید شود. در پژوهش حاضر سعی شده است پودری تولید شود که ساختار آن بصورت آگلومره هایی متشکل از ذرات نانومتری باشد. بنابراین پودر تولید شده در حد میکرومتر و مناسب دستگاه پاشش سرد است. این پودر متخلخل با استفاده از روش سل ژل تولید شد. انرژی سطحی بالای ذرات، هنگام برخورد، منجر به اتصال این ذرات سرامیکی در حین برخورد شد و در نهایت پوششی سرامیکی به نسبت ضخیم با استفاده از روش پاشش سرد به دست آمد. مطالعات sem و xrd بر روی پودرها و پوشش ها انجام شد. نتایج حاصل از پوشش ها نشان داد که پوشش به دست آمده پوششی نانو ساختار و با ضخامتی میکرومتری است. بنابراین پوشش های حاصل از این روش هم خاصیت نانوساختار خود را حفظ می کنند و هم به علت پایین بودن دمای فرآیند، دستخوش تغییرات فازی حاصل از افزایش دما نمی شوند.