در این پژوهش پوشش اکسیدروی (zno) بر روی زیر لایه فولاد زنگ نزن به روش پاشش شعله ای (fs) و پاشش پلاسمایی اتمسفری (aps) اعمال گردید. آنالیز فازی پوشش ها توسط آزمون پراش پرتو ایکس (xrd) و ریزساختار پوشش توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی (sem) مورد بررسی قرار گرفت. به منظور ارزیابی میزان جذب نور از دستگاه اسپکتروفتومتر و جهت ارزیابی رفتار فتوکاتالیتیکی پوشش های حاصل شده از تخریب محلول آبی متیلن بلو استفاده شد. نتایج نشان داد که فرایند پاشش حرارتی میزان جذب نور اکسیدروی را افزایش و کاف نواری این ماده را کاهش می دهد که این موارد بعنوان یکی از نتایج بسیار حائز اهمیت فرایند پاشش حرارتی در مباحث فتوکاتالیتیکی اکسیدروی می باشد. بررسی ها نشان داد بدلیل ضعف پوشش های پاشش شعله ای با پارامترهای ارائه شده در این پژوهش، این پوشش ها نمی توانند بعنوان گزینه مناسبی برای کاربرد در محیط های آبی باشند. از طرفی پوشش های حاصل شده از طریق فرآیند پاشش پلاسمایی رفتار فتوکاتالیتیکی بسیار مناسبی را از خود نشان داده اند. از میان پوشش های ایجاد شده از طریق فرایند پاشش پلاسمایی، بیشترین بازده فتوکاتالیتیکی و بالاترین ثابت سرعت واکنش مربوط به نمونه ای است که بالاترین میزان زبری، تخلخل و جذب نور را داشته است. نتایج این پژوهش نشان داد که نرخ سرعت واکنش تخریب محلول متیلن بلو توسط پوشش پاشش پلاسمایی اکسیدروی، از یک رابطه سنیتیکی مرتبه اول پیروی می کند. بررسی ها نشان داد که شدت نور می تواند تأثیر قابل ملاحظه ای بر رفتار فتوکاتالیتیکی پوشش اکسیدروی داشته باشد.