در سال های اخیر هدف بسیاری از تحقیقات دسترسی به سطوح آبگریز بوده است. این تحقیقات منجر به ساخت سطوح آبگریز با روش های مختلف پوشش دهی و بر اساس سیستم های آلی، معدنی و هیبریدهای آلی - معدنی شده است. در این تحقیق، تهیه لایه نازک سیلیکای آبگریز و شفاف با استفاده از تترا متوکسی سیلان (tmos) به عنوان پیش ماده سیلیس و عامل آبگریز ان، ان-دی متیل–ان-اکتا دسیل-3-آمینو پروپیل تری متوکسی سیل کلراید (dmoap) مورد بررسی قرار گرفته است. لایه نازک آبگریز بر اساس سیستم هیبرید آلی – معدنی با استفاده از فرآیند سل - ژل در دمای اتاق و یک مرحله کاتالیست ساخته شده است. پوشش دهی نیز به روش غوطه وری بر زیر لایه شیشه سودالایم و بتن انجام گرفته است. چهار متغیر مورد بررسی در این کار عبارتند از دمای عملیات حرارتی، عامل آبگریز، آب و اسید استیک. مقادیر اسید، آب، حلال و عامل آبگریز بر اساس نسبت مولی به tmos محاسبه شد و دمای عملیات حرارتی نیز بر اساس نتایج آنالیز حرارتی همزمان (sta) تعریف شد. جهت اطمینان از آبگریزی و شفافیت لایه نازک از اندازه گیری زاویه تماس آب (ca) و طیف سنج نور مرئی (uv-vis) استفاده شد. تشکیل شبکه هیبرید آلی – معدنی (si-o-si) با استفاده از طیف های حاصل از طیف سنج مادون قرمز تبدیل فوریه (ft-ir) مورد تایید قرار گرفت. بهترین پوشش با عبور نور 5/88 درصد و زاویه تماس °104 از آلکوسل با نسبت مولی cooh3ch : o2h : dmoap : tmos : meoh به ترتیب 2 : 4 : 12/0 : 1 : 8/14 به دست آمد. آنالیز دینامیک تفرق نوری (dls) نشان دهنده اندازه تقریبی nm 7 برای ذرات بود. بررسی مورفولوژی پوشش بهینه با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی (fe-sem) و میکروسکوپ نیروی اتمی (afm) به ترتیب نشان دهنده توزیع یکنواخت نانو ذرات و میانگین زبری nm 19/0 بود که آبگریزی بر اساس مدل ونزل را تایید کرد.