سلولز سولفوریک اسید یک بیوپلیمر زیست تخریب پذیر است که به آسانی از طریق واکنش کلرو سولفونیک اسید با سلولز تهیه شد. در این تحقیق امکان حذف یون های فلزی (ni(ii), pb(ii), cu(ii), cd(ii) و mn(ii)) از محلول آبی با استفاده از سلولز سولفوریک اسید در یک سیستم ستون پر شده مورد بررسی قرار گرفت. در این آزمایشات پارامترهای مهمی مانند تأثیر ph، تغییرات سرعت جریان محلول، مقدار جاذب، تغییرات حجم محلول و غلظت های اولیه فلزات بررسی شد. جذب زیستی در ستون قادر به حذف یون های فلزی از محلول چند عنصری بود. بیشترین راندمان حذف برای فلزات نیکل، سرب، مس، کادمیوم و منگنز به ترتیب برابر 9/95، 01/99، 1/98، 6/94 و 5/95 به دست آمد. بهترین شرایط جذب برای سلولز سولفوریک اسید در 5 ph= در حالیکه سرعت جریان محلول ml/min 4 و مقدار جاذب یک گرم استفاده شد، به دست آمد. به منظور بررسی تغییرات غلظت اولیه بر راندمان حذف فلزات مورد آزمایش و همچنین به دست آوردن بیشترین ظرفیت جاذب برای هرکدام از فلزات، محدوده غلظت mg/l 5/2 تا mg/l 50 مورد بررسی قرار گرفت. بیشترین ظرفیت جذب جاذب برای فلزات نیکل، سرب، مس، کادمیوم و منگنز به ترتیب برابر 44/0، 67/0، 33/0، 27/0 و 29/0 میلی گرم بر گرم به دست آمد. با کاهش غلظت، راندمان حذف فلزات از محلول افزایش می یابد. واجذب فلزات سنگین جذب شده برروی سلولز سولفوریک اسید با استفاده از محلول های نیتریک اسید در غلظت های (mol/l 2 و mol/l 4) و کلریدریک اسید در غلظت های (mol/l 2 و mol/l 4) بررسی شد. نتایج به دست آمده از مطالعات جذب برای فلزات (ni(ii), pb(ii), cu(ii), cd(ii) و mn(ii)) بر اساس دو مدل لانگمویر و فرندلیچ ترسیم شد. این بررسی نشان داد که در محدوده غلظت مورد آزمایش نتایج از مدل لانگمویر تبعیت بهتری دارند. قدرت جذب نسبتاً بالای سلولز سولفوریک اسید، یک جاذب موثر و زیست تخریب پذیر در فرایند حذف فلزات سنگین از محلول های آبی را معرفی کرده همچنین روشی آسان و مطمئن برای تصفیه پساب صنعتی ارائه می دهد

در سال های اخیر اکسیژن اتمی به عنوان یکی از مخرب ترین عوامل روی مواد و سطوح فضاپیماها شناخته شده و مورد بررسی قرار گرفته شده است. بر هم کنش اکسیژن اتمی با مواد به فرسایش سطح، تغییر در ترکیب شیمیایی، تغییر در ریخت سطح، تغییر در خواص نوری و ایجاد ذرات و آلودگی مولکولی در سطح فضاپیما می انجامد. در این تحقیق در ابتدا پوشش کنترل حرارتی سیاه سیلیکونی از پلیمر پلی دی متیل سیلوکسان، عامل شبکه ساز اکسیم سیلان و رنگدانه کربن سیاه تهیه شد. آزمون های عمومی نظیر خمش، ضربه، سایش و... مورد ارزیابی قرار گرفت. سپس اثرات اکسیژن اتمی در سه شار، سه دما و سه زمان متفاوت بر اساس کاهش جرم، تغییر در مورفولوژی و ترکیب شیمیایی بررسی شد. پوشش تهیه شده دارای بالاترین مقاومت در برابر سایش، ضربه و خمش بوده و چسبندگی قابل قبولی دارد. همچنین این پوشش دارای ضریب جذب 98/0 و نشر 905/0 بوده که با نسبت ضریب جذب به نشر 08/1 خواص نوری خوبی را داراست. بررسی اثر تغییر در شار اکسیژن اتمی نشان داد که با افزایش شار اکسیژن اتمی تشکیل لایه ی محافظ sio2 روی پوشش بیشتر شده و کاهش وزن آن کمتر می شود ولی سطح آن به لحاظ تشکیل همین لایه ترد دارای ترک و ناهمواری هایی خواهد شد. با افزایش دما، تخریب پوشش افزایش یافته و سطحی با ترک و ناهمواری های زیاد به وجود می آید، لذا کاهش وزن افزایش یافته است. افزایش زمان ماندگاری در برابر اکسیژن اتمی به دلیل تشکیل لایه ی محافظ sio2، سبب کاهش تخریب پوشش می شود.

چکیده ندارد.