الکتروانباشت یکی از ساده ترین، انعطاف پذیرترین و کم هزینه ترین روش های لایه نشانی نسبت به سایر روش های موجود بر پایه ی تکنیک خلا می باشد که امکان رشد تک لایه ای ها، چندلایه ای ها و لایه های آلیاژی مغناطیسی را در شرایط طبیعی دما و فشار فراهم می کند. در این پروژه پس از شناسایی و رسیدن به شرایط بهینه ی انباشت الکتروشیمیایی طلا بر روی زیرلایه های فلزی از جنس مس و نیمه رسانا از جنس سیلیکون نوع n ؛ لایه های نازک طلا با ضخامت های مختلف در دو مد کرنوکولومتری (chc) تحت پتانسیل ثابت و کرنوپتانسیومتری (chp) تحت جریان ثابت، تهیه شدند. لایه نشانی الکتروشیمیایی با استفاده از الکترولیت سیانیدی قلیایی طلا، حاوی یک گرم پودر طلای 24 عیار، انجام شده است. با استفاده از دستگاه پراش پرتو ایکس (xrd)و میکروسکوپ الکترونی روبشی (sem) ساختار و مورفولوژی فیلم های طلا مورد بررسی قرار گرفته و آنالیزتفکیک انرژی پرتو ایکس(edx) درصد وزنی و اتمی عناصر موجود در لایه های انباشتی را تعیین کرده است. در پایان خواص مغناطیسی لایه های آلیاژی و چندلایه ای های au-ni بر روی زیرلایه های مسی، توسط دستگاه مغناطوسنج نمونه ارتعاشی (vsm) مورد مطالعه قرارگرفته، مقادیر حاصل از منحنی پسماند ارائه شده اند.