در این کار تجربی سعی شده است برخی ویژگی های الکتریکی و ساختاری لایه های نازک سه فلز مس ، نقره و آلومینیوم ، مورد مطالعه قرار گیرد. ایجاد لایه های نازک فلزی با ویژگی های ساختاری و الکتریکی مناسب از اهمیت اساسی در علوم و تکنولوژی های متفاوت برخوردار است. به علت مزیت های فراوان این لایه ها در اتصالات بینابینی ، به دلیل مقاومت الکتریکی پایین و دمای ذوب بالا مطالعه لایه های نازک این سه فلز بر ویژگی های الکتریکی و میکروساختاری آنها به روش های مختلف تمرکز یافته است. در این پروژه ، لایه های نازک cu ، ag و al بر زیرلایه های شیشه ، با بهره گیری از روش کندوپاش dc مگنترون و در فشار ثابت 0.02mbar ، تولید شدند. تأثیر برخی پارامترهای انباشت مانند ضخامت ، دمای انباشت و دمای بازپخت و آهنگ انباشت بر ویژگی های این لایه ها بررسی شده است. در فصل 1 این پایان نامه به معرفی مختصر چند ویژگی از مواد مورد استفاده در این پروژه پرداخته شده است .در فصل دوم ،به تعدادی از تحقیقات انجام شده در این راستا که توسط دیگران انجام شده ، اشاره شده است. در فصل سوم درباره روش لایه نشانی و دستگاه های به کار گرفته شده و نیز توضیحات مختصری از روش های آنالیز نمونه ها ، بحث شده است. در فصل چهارم ،اثر دمای انباشت و دمای بازپخت بر مورفولوژی سطح لایه ها توسط آنالیز afm ، بررسی شده است و نیز از آنالیز پراش اشعه ایکس (xrd)، برای بررسی برخی پارامترهای انباشت بر ساختار لایه ها و راستای ترجیحی رشد و دانه بندی آنها استفاده شده است. در فصل پنجم، ویژگی های الکتریکی لایه های نازک این سه فلز مورد مطالعه قرار گرفت مقاومت الکتریکی لایه ها به روش چهارسوزنه خطی و مربعی اندازه گیری شده و تأثیر عوامل مختلف مانند ضخامت ، دمای انباشت و دمای بازپخت بر ویژگی های الکتریکی این فلزات ، بررسی شده است.