تاثیر یون هالید بر فرایند خوردگی آلومینیوم در محیط خنثی به روش پلاریزاسیون تافلی و میکروسکوپ الکترونی (sem) مورد مطالعه قرار گرفت. بررسی ها نشان داد خطر حفره ای شدن سطح آلومینیوم در حضور یون فلورید پایین بوده و برای سایر هالیدها به صورت -cl- > br- > i افزایش می یابد. این مشاهدات بر اساس قدرت بازی آنیون فلورید و درجه سختی سایر آنیون ها توجیه گردید. به منظور معرفی بازدارنده های جدید، ترکیب نامحلول در آب مزو-تترافنیل پورفیرین (h2tpp)، سنتز و توسط طیف بینی تشدید مغناطیس هسته ای (nmr) و ماورای بنفش-مرئی (uv-vis) مورد تایید قرار گرفت. بررسی های الکتروشیمیایی نشان داد هرچند عملکرد بازدارندگی h2tpp بالا بوده (% 92) اما استفاده از آن خطر حفره ای شدن سطح را افزایش می دهد. در ادامه با سولفون دار کردن ترکیب سنتزی مزو-تتراکیس(4-متوکسی فنیل)پورفیرین (h2tap)، ترکیب محلول در آب سدیم مزو-تتراکیس(4-متوکسی-3- سولفوناتو فنیل)پورفیرین (h2taps4) بدست آمد و عملکرد بازدارندگی آن در فرایند خوردگی سه فلز آلومینیوم، آهن و مس در محیط سدیم کلرید مطالعه شد. نتایج طیف بینی انعکاسی، مطالعات الکتروشیمیایی و تصاویر میکروسکوپ الکترونی بیانگر آن بود که بیشترین برهم کنش بازدارنده/سطح، مربوط به فلز مس بوده و بیشترین راندمان برای این فلز و کمترین عملکرد بازدارندگی برای آلومینیوم حاصل گردید. یافته های تجربی بر اساس نظریه ی اسید و باز سخت و نرم توجیه شد.