اکسید روی به دلیل داشتن کاربردهای متنوع? خواص پیزوالکتریکی و فوتوالکتریکی در سالهای اخیر بسیار مورد توجه قرار گرفته است. روش سل- ژل نیز به علت دارا بودن مزایای فراوان از جمله لایه نشانی در ابعاد نسبتا وسیع? دمای پایین فرایند? خلوص و همگنی فیلم ها? همچنین هزینه پایین از روشهای مطلوب لایه نشانی محسوب می شود. دراین تحقیق فیلم های نازک اکسید روی به روش سل – ژل چرخشی تهیه شده? سپس خواص اپتیکی و ساختاری آن به کمک آنالیز های اسپکتروفوتومتری? الگوی پراش اشعه ایکس? پراکندگی رامان و میکروسکوپ نیروی اتمی مورد بررسی قرار گرفته است. همچنین در این پروژه? نرم افزار پوما? جهت تعیین ثابت های اپتیکی و ضخامت فیلم ها استفاده شده است. اسپکتروفوتومتری فیلم ها به کمک طیف عبور و محاسبه گاف انرژی? ضریب شکست و ضریب خاموشی فیلم ها مورد مطالعه قرار گرفته است. طیف پراش اشعه ایکس نمونه ها نشان دهنده ساختار ورتسایت نمونه ها با پیک ترجیحی (002) می باشد. با استفاده از ثابت های شبکه? کرنش در فیلم ها نیز محاسبه شده است. پراکندگی رامان فیلم های تهیه شده نشان دهنده کیفیت کریستالی بالا و وجود تنش در نمونه ها می باشد. آنالیز میکروسکوپ نیروی اتمی نشان دهنده مورفولوژی سطح? اندازه دانه و زبری سطح نمونه ها می باشد. در این پروژه نانو ذرات اکسید روی نیز در اندازه100-50 نانو متر به روش سل- ژل تهیه شدند. کلمات کلیدی: فیلم نازک اکسید روی? سل- ژل? خواص اپتیکی و ساختاری? پراکندگی رامان