برای بخش عایق لایه های نازک معمولا از دی اکسید سیلیسیوم استفاده میکنندکه این اکسید از ترکیب سیلان و اکسیژن است. درنتیجه برای یک لایه با کیفیت ابتدا باید مکانیزم ترکیب سیلان با اکسیژن بدست بیاید. سپس رابطه فشار و دما با این مکانیزم و بدست آوردن یک مدل برای این لایه نشانی. درنهایت هم این نتایج بوسیله پراکندگی بازگشتی رادرفورد مورد آنالیز قرار گرفت تا کیفیت نهایی انها از نظر استوکیومتری مورد بررسی قرار گیرد

لایه های اکسیدی به روشی جدید در محدوده دمایی بالاتر از 140 درجه سانتیگراد و فشارهای 4 الی 20 تور در نسبت های مختلف گازی o2/sih4 تهیه شده اند که دارای نرخ لایه نشانی بین 0 -500 آنگسترم در دقیقه و نرخ لایه برداری بین 50-110 آنگسترم در ثانیه و میدان های شکست از مرتبه مگاولت بر سانتیمتر بوده که از لحاظ کیفیت بسیار نزدیک به لایه های اکسید حرارتی می باشند. آنالیز لایه های اکسیدی تهیه شده به وسیله ft-ir نشان می دهد که این لایه ها دارای خواص جذبی شبیه به sio2 می باشند و پیک های باندهای کششی و خمشی در cm-1 1078 و cm-1 820 کاملا مشهود می باشند. مقاومت لایه های تهیه شده در مقابل اسیدhf : h2o 1 به 10 نرخ لایه برداری 50-110 آنگسترم در ثانیه می باشد.

چکیده ندارد.

چکیده ندارد.