پلی آنیلین به عنوان یکی از پلیمرهای هادی بسیار مهم به دلیل داشتن پایداریت محیطی بالا مورد توجه می باشد. اگرچه فرم هادی این پلیمر به دلیل عدم حلالیت در حلالهای آلی رایج و عدم داشتن نقطه ذوب دارای فرایندپذیری کمی می باشد. به منظور ایجاد حلالیت و نقطه ذوب می توان با وارد کردن استخلافها به زنجیر پلیمری با استفاده از روشهای مختلف می توان فرآیند پذیری این پلیمر را بهبود بخشید. ، در کار پژوهشی حاضر سعی شده است که با انجام فرایند گرافت بر روی پلی آنیلین حلالیت این پلیمر را در حلالهای آلی مثل تولوئن بهبود داده شود. چون پلی آنیلین در حلالهای آلی غیر قطبی قابل حل نیست. در این پروژه فرایند سیلیلاسیون پلی آنیلین در حضور نانو ذرات اکسید آهن مغناطیسی در شرایط سهل و در دمای اتاق انجام شده ودر ضمن اینکه پلی آنیلین استخلاف شده الکترو اکتیوی خود را حفظ کرده است، حلالیت قابل توجهی نیز در حلالهای غیر قطبی مثل تولوئن از خود نشان داده است. در ضمن این پلیمرها نانو ذره بودن خودشان را بعد از سیلیلاسیون نیز حفط کرده اند. در ادامه کار پژوهشی مونومر آنیلین را نیز در حضورنانو ذرات اکسید آهن مغناطیسی سیلیله کردیم و نقش این نانو ذرات را در این واکنش با آنالیز gc مورد بررسی قرار دادیم و اثبات شد که oh های روی این نانو ذرات نقش مهمی در فرایند سیلیلاسیون دارند. ضمن اینکه انجام فرایند گرافت بر روی زنجیر پلی آنیلین و تغییرات در خواص الکتریکی، رفتار حرارتی و همچنین مورفولوژی سطح نمونه ها با آنالیزهای , ir ,cv ,dsc ,xrd ,uv ,sem... مورد مطالعه قرار گرفته اند.