نام پژوهشگر: سکینه مینایی فرد

شبیه سازی سطح سیلیکان متخلخل به روش ‏‎dla‎‏
پایان نامه 0 1382
  سکینه مینایی فرد   رضا ثابت داریانی

سیلیکان ‏‎si‎‏ از جمله نیمه رساناهایی است که کاربرد وسیعی در صنعت الکترونیک دارد اما همین عنصر به علت داشتن گاف غیرمستقیم ، دارای خواص ضعیف اپتیکی بوده و جایگاهی در کاربردهای اپتیکی ندارد.یکی از راههایی که می توان بدان طریق در سیلیکان خواص اپتیکی بوجود آورد، کوچک کردن ساختار ‏‎si‎‏ است، به حدی که اثرات کوانتومی در ساختار نواری آن بکار آید. به این ساختار ، سیلیکان متخلخل ‏‎ps‎‏ گفته می شود . لایه های سیلیکان متخلخل معمولا بوسیله آندیزاسیون الکتروشیمیایی سطح یک ویفر سیلیکان تهیه می شود. در طی فرایند آندیزاسیون ویفرسیلیکان ، خللی در حجم سیلیکان ایجاد می شود که قطر آنها بنا به شرایط آندیزاسیون در حد نانومتر یا میکرومتر است. این خلل در سطح یکی از صفحات بلورشناسی دارای ساختاری درختی و شاخه شاخه می باشد.