نام پژوهشگر: سکینه مینایی فرد
شبیه سازی سطح سیلیکان متخلخل به روش dla
پایان نامه
0
1382
سکینه مینایی فرد رضا ثابت داریانی
سکینه مینایی فرد رضا ثابت داریانی
سیلیکان si از جمله نیمه رساناهایی است که کاربرد وسیعی در صنعت الکترونیک دارد اما همین عنصر به علت داشتن گاف غیرمستقیم ، دارای خواص ضعیف اپتیکی بوده و جایگاهی در کاربردهای اپتیکی ندارد.یکی از راههایی که می توان بدان طریق در سیلیکان خواص اپتیکی بوجود آورد، کوچک کردن ساختار si است، به حدی که اثرات کوانتومی در ساختار نواری آن بکار آید. به این ساختار ، سیلیکان متخلخل ps گفته می شود . لایه های سیلیکان متخلخل معمولا بوسیله آندیزاسیون الکتروشیمیایی سطح یک ویفر سیلیکان تهیه می شود. در طی فرایند آندیزاسیون ویفرسیلیکان ، خللی در حجم سیلیکان ایجاد می شود که قطر آنها بنا به شرایط آندیزاسیون در حد نانومتر یا میکرومتر است. این خلل در سطح یکی از صفحات بلورشناسی دارای ساختاری درختی و شاخه شاخه می باشد.