در این پژوهش فیلم های لایه نازک نانو ساختار روی اکسید حاوی نقره و روی اکسید فرونشانی فتوشیمیایی شده با نانو ذرات نقره روی بستر شیشه ای بوسیله فرایند سل-ژل و با استفاده از تکنیک های پوشش دهی چرخشی و غوطه وری تهیه شدند. برای تهیه سل روی اکسید حاوی نقره، از ترکیب سل روی اکسید و محلول نقره در اتانول استفاده شده است. و برای ساخت فیلم های روی اکسید فرونشانی شده با نانو ذرات نقره، فیلم های روی اکسید درون محلول آبی نقره و تری سدیم سیترات به عنوان عامل محدود، تحت تابش نور فرابنفش قرار گرفتند. در ساخت فیلم های لایه نازک وابستگی بین دمای پیش گرمایش و عملیات حرارتی بر کیفیت فیلم ها بررسی شد و دمای بهینه مشخص گردید. تجزیه گرمایی سل بوسیله طیف tg-dtg مورد بررسی قرار گرفت و مورفولوژی، ساختار فازی و خواص نوری فیلم ها بوسیله میکروسکوپ روبش الکترونی، میکروسکوپ نیروی اتمی، طیف سنجی پراش اشعه ایکس، طیف سنجی مرئی-فرابنفش ، و تجزیه عنصری سطح توسط edx و xps بررسی شد. حضور نقره در ساختار فیلم های لایه نازک روی اکسید باعث تغییر در شدت فازهای کریستالی روی اکسید و جابجایی لبه نوار جذب در آنها می شود. تصاویر sem و tem تهیه شده، اندازه ذرات zno را در حدود 40 نانومتر و اندازه ذرات ag را حدود 5 نانومتر نشان می دهد. در بخش دیگری از کار، فیلم های تهیه شده در تخریب فتوکاتالیزوری مرکاپتان ها مورد قرار گرفته و تاثیر عوامل مختلفی همانند ph، جریان هوا، نسبت مولی نقره به روی اکسید، دمای پیش گرمایش و عملیات حرارتی، زمان تابش، شدت تابش و فعالیت فتوکاتالیزوری فیلم های لایه نازک در مقایسه با پودر مورد بررسی قرار گرفته است. همچنین سنتیک تخریب مرکاپتان های مختلف بررسی شد و مشخص گردید تخریب ترکیبات 2-مرکاپتوبنزوکسازول و 3-مرکاپتو،1،2،4-تری آزول با سنتیک مرتبه?اول و 2-مرکاپتوبنزایمیدازول و 2-مرکاپتوپیریمیدین با سنتیک مرتبه دوم صورت می پذیرد.