در این کار تحقیقی، به ویژگیهای لیزر مرتبط با طیف نگاری، اصول و روشهای مختلف طیف نگاری بویژه طیف نگاری لیزری پرداخته شده است. طیف نگاری جذبی که زیر مجموعه طیف نگاری لیزری بوده مورد بررسی قرار گرفته و سپس طیف نگاری فوتوترمال ( به طور اخص طیف نگاری عدسی گرمائی) که از جمله طیف نگاریهای جذبی محسوب می شود بحث گردیده است. در طیف نگاری عدسی گرمائی به نوع دو پرتوی آن توجه شده و آزمایشها بر اساس آن انجام و نتایج تحلیل گردیده است. با استفاده از مبانی فیزیکی و اپتیکی موضوع، ضریب پخش گرمائی غلظت های مختلف پلی متیل متا کریلات ((pmma حل شده در کلروفرم و ضریب پخش گرمائی حلالهائی مانند (کلروفرم، استن، متانول، اتیل استات، هپتان، دی اتیل اتر) با استفاده از روش طیف نگاری عدسی شدگی گرمائی دو پرتوی پالسی اندازه گیری شده است. پالسهای هارمونیک دوم 532 نانومتر مربوط به لیزر نئودیمیوم– یاگ سوئیچ q شده به عنوان منبع گرما و لیزر هلیوم– نئون با پایداری مناسب شدت، به عنوان پرتو گمانه استفاده شده است. نتیجه اینکه با افزایش غلظت pmma ضریب پخش حرارتی نمونه ژل کاهش می یابد و کمترین مقدار بدست آمده برای ضریب پخش گرمائی pmma جامد، حدود 000024/0 می باشد.