میکروسکوپ های afm توانایی خوبی در تصویر برداری از سطوح اکثر مواد رسانا، نیمه رسانا، کریستال های فوتونی وعایق ها را دارند که امروزه از جمله ابزار های مهم در حوزه نانو تکنولوژی محسوب می شود. از آن جایی که تکنولوژی ساخت cantilever ها که در میکروسکوپ های نیروی اتمی afm به عنوان یک قطعه، بسیار هزینه بر، وارداتی است و مخصوصا اطلاعات مربوط به دانش فنی آن نیز عملا موجود نمی باشد، در این تحقیق به مطالعات و بررسی هایی در دانش فنی فرایند سونش، به پارامترهایی چون انتخاب مواد، سونشگر ها و ماسک های مناسب جهت سونش یکنواخت و بهینه ویفر، طراحی وساخت سیستم ایجاد ماسک های متوالی برای ایجاد شکل مناسب در کانتیلورها، و در نهایت بررسی روشی برای تعیین مشخصه یک قطعه ساخته شده پرداخته می شود. در نهایت روشی برای ساخت فنرک نیروی اتمی ارائه شده است که در این روش از اکسیداسیون سطح سیلسیم لیتوگرافی و سونش به وسیله محلول هیدرازین استفاده شده است.