اصلاح سطح فیلم پلی اتیلن سبک به کمک پلاسما برای ایجادخاصیت ضد باکتری

با توجه به گسترش روزافزون استفاده از پلیمرها در صنایع مختلف پزشکی و خوراکی، تغییر خواص این دسته از مواد به منظور افزایش مقاومت آن ها در برابر میکروارگانیسمهای بیماری زا نظیر باکتریها دارای اهمیت زیادی است. در این پروژه، فیلم پلی اتیلن سبک به کمک پلاسما اصلاح سطح شده و سپس به منظور افزایش پایداری گروههای عاملی فعال بر روی سطح آن، مونومرهای مناسبی نظیر آلیل آمین، آلیل الکل و هیدروکسی اتیل متاکریلات بر روی سطح آن از حالت بخار گرافت پلیمریزه شده و تشکیل برس دادند. در انتها عوامل ضدباکتریایی نظیر آلژینیک اسید که یک پلی ساکارید است به همراه سه فلوئوروکینولون معروف، نورفلوکساسین، سیپروفلوکساسین و افلوکساسین به طور جداگانه بر روی برس مذکور نشانده شده تا خاصیت ضد باکتریایی به سطح فیلم پلی اتیلن سبک ببخشند. این فیلم در مراحل مختلف اصلاح توسط آزمون اندازه گیری زاویه تماس، میکروسکوپی الکترونی روبشی، طیف بینی مادون قرمز فوریه، طیف بینی فوتوالکترونی اشعه ایکس و آزمون نفوذ در آگار تجزیه و تحلیل شدند. به منظور مطالعه تاثیر گونه باکتری بر میزان عملکرد بیولوژیکی سطوح اصلاح شده، دو گونه معروف باکتریها یعنی گرم مثبت و گرم منفی در این پروژه مطالعه شد. نتایج نشان دادند که به منظور پیوند زنی آلژینیک اسید بر روی سطح پلیمر، مونومر هیدروکسی اتیل متاکریلات مناسب ترین مونومر(22میلیمتر) در میان سه مونومر است که سبب می شود بیشترین مقدار آلژینیک اسید به عنوان عامل ضد باکتری بر سطح بنشیند. در مقایسه با نمونه شاهد (فیلم اصلاح نشده) نمونه اصلاح شده با پلاسما دارای زبری سطح بالاتر و آبدوستی بیشتری است. همین روند برای نمونه های پیوند شده با مونومرهای آلیل آمین، آلیل الکل و هیدروکسی اتیل متاکریلات نیز دیده می شود. هرچند هیچکدام توانایی توقف رشد باکتریها را نداشت. به لحاظ مقایسه ای می توان گفت که نورفلوکساسین(41 میلی متر) بیش از سیپروفلوکساسین(28 میلیمتر) و افلوکساسین(هیچ منطقه بازدارنده ای دیده نشد) دارای توان بازدارندگی رشد باکتری است زیرا به میزان بیشتری می تواند بر روی آلیل آمین پیوند بخورد. سه عامل فوق بیش از آلژینیک اسید در مقابل باکتریها موثر هستند. ضمنا گونه باکتری گرم منفی به دلیل ساختار خاص جداره خارجی متفاوت آن نسبت به گرم مثبت در مقابل عوامل ضد باکتریایی فوق آسیب پذیر تر است.