مطالعه خواص فیزیکی لایه های نازک اکسید تنگستن و کاربردهای آن
پایان نامه
- وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه صنعتی شاهرود - دانشکده فیزیک
- نویسنده فاطمه رحیمی جعفری
- استاد راهنما زهره قرآن نویس حسین عشقی
- سال انتشار 1393
چکیده
در این پایان نامه به مطالعه ی مورفولوژی سطح، خواص ساختاری،اپتیکی، الکتریکی و ترموالکتریکی و همچنین بررسی خاصیت الکتروکرومیکی به عنوان کاربرد برای نمونه های اکسید تنگستن به روش اسپری پایرولیز پرداخته شده است. برای مشخصه یابی نمونه ها از دستگاه های میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی( fesem)، پراش پرتو ایکس (xrd)، طیف سنجی uv-vis ، مشخصه جریان_ولتاژ (i-v) و آزمایش سیبک استفاده شده است. در نمونه های رشد یافته از محلول آمونیوم تنگستات ((nh4)2wo4)، تهیه شده از پودر اکسید تنگستن خالص(9/99 درصد) و محلول آمونیاک استفاده شده است.پارامترهای متغیر در این تحقیق عبارت اند از: حجم محلول و بازپخت نمونه ها در محیط هوا ، دمای زیر لایه ، نوع زیر لایه و آلایش نمونه ها با استفاده از نمک کلرید لیتیم(licl). در این نمونه ها تصاویر fesem حاکی از شکل گیری نانو ذرات و رشته های درهم تنیده ی اکسید تنگستن بر روی سطح زیرلایه هاست. همچنین طیف xrd نشانگر ساختار های آمورف و بسبلوری است. طیف عبوری نمونه ها شفاف بودن لایه ها را در گستره نور مرئی نشان می دهد. مشخصه ی جریان_ولتاژ نمونه ها حاکی از مقاومت بالای آن ها در دمای اتاق است و همچنین آزمایش سیبک نشان دهنده ی آن است که نمونه ها دارای رسانندگی نوع n می باشند.
منابع مشابه
بررسی الکترواپتیکی لایه های نازک اکسید تنگستن و اکسید وانادیوم به منظور طراحی قطعه الکتروکرومیک
در این مطالعه لایههای نازک الکتروکرومیک اکسید تنگستن و اکسید وانادیوم به روش فیزیکی تبخیر حرارتی در خلأ در ضخامت 200 نانومتر بر روی زیر لایه هادی شفاف sno2:f جایگذاری شده و مورد مطالعه اپتیکی در بازه طول موج 400 تا 700 نانومتر و مطالعه الکتریکی در بازه پتانسیل 5/1- تا 5/1+ ولت قرار گرفتهاند. همچنین این لایهها به منظور بررسی میزان تغییر گاف انرژی با دما، در دماهای 120، 300 و 500 درجه سیلسیوس ...
متن کاملالکترو ترسیب لایه های نازک اکسید تنگستن ونانو کامپوزیت اکسید تنگستن/نقره و مطالعه خواص الکتروکاتالیزی آنها
کار پژوهشی حاضر در دو بخش انجام شده است: در بخش اول اقدام به تهیه الکترود های کربن سرامیک اصلاح شده با اکسید تنگستن، نقره و کامپوزیت اکسیدتنگستن/ نقره با ولتامتری چرخه ای گردید، که مورفولوژی هر کدام از این الکترود ها با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی نشر میدان (fesem) مورد مطالعه قرار گرفت. همچنین از پراش پرتو ایکس(xrd) و پراکندگی انرژی پرتو ایکس (edx) به منظور پی بردن به نوع عناصر موجود د...
15 صفحه اولبررسی اثر زمان لایه نشانی بر خواص فیزیکی لایه های نازک N:ZnO
در این تحقیق لایههای نازک N:ZnO روی زیر لایه شیشه با استفاده از کندوپاش DC در فشار کاری Torr 2-10×2 در مخلوط گازهای آرگون و نیتروژن لایه نشانی شدند. ضخامت، ریخت‌شناسی، ساختار کریستالی و خواص اپتیکی لایهها در سه زمان کندوپاش مختلف شناسایی شدند. با افزایش زمان لایه نشانی، ضخامت لایهها، زبری سطح و ارتفاع دانه‌ها افزایش می‌یابد. لایهها دارای بافت قوی کریستالی در راستای (002) با ساختار هگزاگونال...
متن کاملبررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع
در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ITO) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت‌های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (XRD) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (XRR) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...
متن کاملمنابع من
با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید
ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده{@ msg_add @}
نوع سند: پایان نامه
وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه صنعتی شاهرود - دانشکده فیزیک
میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com
copyright © 2015-2023