مشخصه یابی و بررسی تاثیر حرارت بر خواص الکتریکی برخی لایه های نازک فلزی
پایان نامه
- وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه اراک - دانشکده علوم
- نویسنده سعید سادات سرکی
- استاد راهنما عبدالعلی ذوالانواری
- تعداد صفحات: ۱۵ صفحه ی اول
- سال انتشار 1392
چکیده
در دهه های اخیر نقش نانو ساختارها خصوصا لایه های نازک در فناوری های الکترونیکی و مغناطیسی گسترش فراوانی یافته اند. لایه های نازک رسانا در این میان از اهمیت بالایی برخوردار بوده و بنابر این بررسی خواص ساختاری و الکتریکی این دسته از لایه های نازک از اهمیت بسزایی برخوردار است. در این تحقیق لایه ها و چندلایه ای های رسانا با روش های متداول انباشت تهیه شده اند و با استفاده از روشهای مختلف خواص ساختاری و الکتریکی آنها مورد بررسی قرار گرفته است. دستگاه های استفاده شده در این تحقیق پراش پرتو ایکس (xrd) برای مطالعه ی خواص ساختاری و مکانیکی و دستگاه چهار سوزنه ی مربعی برای بررسی خواص الکتریکی لایه های آماده شده می باشند. چهار نمونه ی بررسی شده چند لایه ای های ni/cu و ni/au بر روی زیرلایه ی سیلیسیوم با راستای ترجیحی (100) و تک لایه های ni بر روی ورقه ی نازک cu و al بر روی زیر لایه ی شیشه می باشد. نمونه ها ابتدا با دستگاه پراش اشعه ی ایکس بررسی شده اند و سپس با استفاده از دستگاه چهار سوزنه ی مربعی خواص الکتریکی آنها بررسی شده است. ضخامت تک لایه ی ni بر روی ورقه ی مس برابر 43 نانومتر و لایه+ al بر روی شیشه 58 نانومتر بوده و برای چند لایه ای ni/cu ضخامت لایه های نیکل و مس به ترتیب برابر 75، 15،75، 15و 75 نانومتر، و برای چند لایه ای ni/au ضخامت نیکل و طلا به ترتیب 35، 8، 35، 8 و 35 نانومتر اندازه گیری شده است. ارتباط میان خواص ساختاری لایه ها و خواص الکتریکی آنها بررسی شده است. در این بررسی وابستگی مقاومت الکتریکی لایه ها با اندازه اجزاء بلوری آنها به خوبی نشان داده شده است. همچنین تاثیر میزان بلوری بودن ساختار لایه ها به خوبی دیده می شود. مقاومت الکتریکی چند لایه ای ni/cu و ni/au بررسی شده است که مقاومت بسیار کم برای چند لایه ای با لایه ی جدا کننده ی طلا دیده شده است. در تک لایه ی al بر روی شیشه خواص الکتریکی در دماهای بازپخت نشان دهنده ی کاهش مقاومت الکتریکی است که ارتباط آن با اندازه ی بلورک ها و ساختار بلوری لایه ها توضیح داده شده است.
منابع مشابه
مشخصه یابی خواص لایه نازک الکترواپتیکی ZnO:Alساخته شده به روش ترکیبی کندوپاش پلاسمایی ساده و اکسیداسیون حرارتی
علاقه به تحقیق و پژوهش در زمینه پلاسماهای غباری که رشته جدیدی در فیزیک پلاسما میباشد با توسعه صنعت میکروالکترونیک رشد چشمگیری داشته است. ذرات غبار که تا کنون به عنوان آلودگی در نظر گرفته میشدند، امروزه در فنآوری های لایه گذاری برای صنایع میکروالکترونیک، اپتیک، الکترواپتیک استفاده میشوند. در اینجا ما روی پوشش با ذرات غبار از طریق ایجاد لایه نازک ZnO:Al کار میکنیم. ذرات غبار Zn وAl میباشند....
متن کاملبررسی تأثیر تابش لیزر بر خواص الکتریکی و ساختاری لایه های نازک zno
در این مقاله لایه نازک zno به روش سل ژل بر روی زیرلایه شیشه ساخته شده است. لایه های اولیه ابتدا در دمای 100 و ˚c 240 خشک و سپس در دماهای 300 ، 400 و ˚c 500 پخت شده اند. اندازه گیری مقاومت دو نقطه ای نشان می دهد که مقاومت الکتریکی لایه های آماده شده، بسیار زیاد است. تابش پرتو لیزر اگزایمر krf ( 248nm = λ ) با تعداد پالس 1000 ، فرکانس 1hz و انرژی 90mj/cm2 بر سطح لایه باعث کاهش مقاومت ...
متن کاملبررسی اثر زمان لایه نشانی بر خواص فیزیکی لایه های نازک N:ZnO
در این تحقیق لایههای نازک N:ZnO روی زیر لایه شیشه با استفاده از کندوپاش DC در فشار کاری Torr 2-10×2 در مخلوط گازهای آرگون و نیتروژن لایه نشانی شدند. ضخامت، ریختشناسی، ساختار کریستالی و خواص اپتیکی لایهها در سه زمان کندوپاش مختلف شناسایی شدند. با افزایش زمان لایه نشانی، ضخامت لایهها، زبری سطح و ارتفاع دانهها افزایش مییابد. لایهها دارای بافت قوی کریستالی در راستای (002) با ساختار هگزاگونال...
متن کاملبررسی تاثیر کاشت یون نیتروژن بر خواص لایه نازک اکسید روی (ZnO)
در این پژوهش، اثر کاشت یون +N در نیمرسانای ZnO (اکسید روی) جهت بررسی تغییرات خواص لایۀ نازک ZnO بررسی شده است. بدین منظور لایۀ نازکی از ZnO به ضخامت nm ١٢۰ با استفاده از روش کندوپاش تهیه شد و سپس به وسیلۀ یونهای N+ با انرژی keV ۵۰ و شار ١۰١٤ (/cm2یون) به مدت زمان ۳ ثانیه بمباران شد. تأثیر کاشت یون+N در خواص بلوری ZnO توسط آنالیزXRD (پراش پرتو X) و تغییرات ریختشناسی سطح به وسیلۀ آنالیزهای AF...
متن کاملمنابع من
با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید
ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده{@ msg_add @}
نوع سند: پایان نامه
وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه اراک - دانشکده علوم
میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com
copyright © 2015-2023