پوشش های پاشش حرارتی پایه ی اکسید آهن برای کاربردهای فتوکاتالیتیکی

در این پژوهش پاشش حرارتی هماتیت به دو روش پاشش شعله ای و پاشش پلاسمایی انجام و از آنالیز پراش پرتو ایکس به منظور بررسی دگرگونی های فازی صورت گرفته استفاده شده است. مورفولوژی و ترکیب سطحی به ترتیب توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی (sem) و آنالیز ft-ir مورد بررسی قرار گرفته است. توانایی جذب نور پوشش های ایجاد شده توسط آنالیز drs مورد ارزیابی قرار گرفته است. مطالعات نشان می دهد که در هر دو فرایند، پوشش دو فازی از هماتیت و مگنتیت ایجاد شده است و بنابراین از تغییر پارامترهای فرایند پاشش شعله ای به منظور تاثیر دگرگونی فازی صورت گرفته بر میزان فعالیت فتوکاتالیتیکی استفاده شده است. به منظور ارزیابی میزان فعالیت فتوکاتالیتیکی از رنگ متیلن بلو استفاده شده است. نتایج نشان دهنده ی تاثیر مثبت پوشش های ایجاد شده در تخریب فتوکاتالیتیکی متیلن بلو بوده است و نمونه ی پوشش داده شده در فاصله ی پاشش 20 سانتی متر دارای بالاترین بازده بوده است. ثابت سرعت فرایند تخریب فتوکاتالیتیکی رنگ متیلن بلو برای این نمونه تحت تابش نور مریی hr-1 085/0 تعیین شده است. شکاف انرژی این پوشش با استفاده از روش تاوک ev 7/1 بدست آمده است. نیز نشان داده شده است که فرایند پاشش شعله ای می تواند نسبت به روش پاشش پلاسمایی گزینه ی مناسب تری جهت اعمال پوشش هماتیت محسوب شود. هم چنین نتایج حاصل از ارزیابی میزان فعالیت فتوکاتالیتیکی نشان می دهد که در بین عوامل موثر بر تخریب فتوکاتالیتیکی رنگ متیلن بلو (مانند ph، غلظت اولیه، شدت و طول موج نور) ph محلول و طول موج نور از موثرترین عوامل هستند.