بررسی اثر ابعاد نانو ساختارهای zno بر خواص اپتوالکتریک

در این پروژه میکرو/ نانو ساختار های zno بر روی زیر لایه کوارتز به روش تبخیر حرارتی درکوره رشد داده شد. ترکیبی از پودر znoو پودر گرافیت (با نسبت یکسان، جهت پایین آوردن دمای بخار) را داخل یک بوته کوارتز کوچک و نزدیک انتهای آن گذاشته شد و زیر لایه کوارتز را در فواصل مختلف از مرکز کوره در تیوپ کوارتز کوچک قرار داده شد. سپس تیوپ کوچک را درون یک تیوپ بزرگ کوارتز قرار داده و گاز خنثای 2 ? به عنوان گاز حامل بخار zno از سمتی که پودر قراردارد، وارد می شود و کل مجموعه در دمای c ? 1050 در مدت زمان های مختلف تحت عملیات حرارتی قرار می گیرد. عوامل موثر بر رشد میکرو/نانوساختارها از جمله اثر لایه کاتالیستی و مدت زمان لایه نشانی مورد بررسی قرارگرفت. بعد از فرایند لایه نشانی، جهت بررسی خواص ساختاری و همچنین مورفولوژی ساختارها از پراش اشعهx و آنالیز عکس های میکروسکوپ الکترونی روبشی mes استفاده شد. سپس طیف عبوری (?)t لایه به وسیله ی اسپکتروفوتومتری 500carry در بازه ی طول موج nm 900-200= ?و در فرود تقریباَ عمود بدست آمده و با استفاده از روش swanepoel ، خواص اپتوالکتریکی مورد تجزیه و تحلیل قرارگرفته است.