فرآیند اکسیداسیون در ساخت مدارهای تجمعی سیلیکون
پایان نامه
- وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه فردوسی مشهد - دانشکده علوم
- نویسنده شعبان رضا قربانی
- استاد راهنما حسین کشمیری
- تعداد صفحات: ۱۵ صفحه ی اول
- سال انتشار 1371
چکیده
باتوجه به امکانات موجود، نتایج به دست آمده بسیار مثبت و رضایتبخش بوده است . برای انجام اکسیداسیون و تحقیق در زمینهء آهنگ اکسیداسیون و تاثیر دقیق عوامل مختلف بر روی آن احتیاج به یک کورهء اکسیداسیون مدرن دارد. کوره در دسترس برای این پروژه، فقط در یک دمای خاص (115 درجه سانتیگراد) کار می کرد (برای دماهای دیگر ضروری بود که دما در تمام نقاط داخل کوره به منظور به دست آوردن نیمرخ دمای اکسیداسیون اندازه گیری شود، چون سیستم کنترل کوره دقیق نبود)، لذا نتوانستیم به طور تجربی تاثیر تمام عوامل موثر را با نتایج حاصل از شبیه سازی مقایسه شده است (که توافق خوبی بین آنها مشاهده می شود) . باتوجه به این که سیستم هدایت و کنترل عوامل اکسید کننده در کورهء موجود در دانشگاه صنعتی شریف از اجزاء کورهء اکسیداسیون بیرلک نبوده و در بخش مواد و ساخت قطعات الکترونیک جهاد دانشگاهی صنعتی شریف طراحی و ساخته شده است ، پیشنهاد می شود که با خرید لوله کوارتز و ساخت سیستم هدایت و کنترل عوامل اکسید کننده شکل (6-2-3) برای کورهء موجود در دانشکدهء علوم دانشگاه مشهد، این کوره راه اندازی و برای تحقیق در زمینهء تاثیر عوامل مختلف روی آهنگ اکسیداسیون (و آزمایشات مشابه) مورد استفاده قرار گیرد. در ادامهء تحقیق بر روی فرآیندها و ادغام فرآینداکسیداسیون و فوتولیتوگرافی بر روی ویفرهای اکسید شده، دریچه های لازم جهت وارد کردن ناخالصی به داخل سیلیکون باز شود. لازم به ذکر است که در مورد فرآیند فوتولیتوگرافی در آزمایشگاه تحقیقاتی میکروالکترونیک (در بخش فیزیک) تحقیقات مبسوطی صورت گرفته و تجربیات زیادی حاصل شده است .
منابع مشابه
فرآیند لیتوگرافی در ساخت مدارهای تجمعی سیلیکون
فرآیند لیتوگرافی، یکی از اساسی ترین و پرهزینه ترین مراحل در ساخت مدارهای تجمعی است . در مقایسه با سایر فرآیندهای ساخت مدارهای تجسمی مثل : اکسیداسیون، ناخالص سازی و فلزگذاری که تحقیقاتی هم در زمینه شبیه سازی کامپیوتری این فرآیندها و هم در زمینه آزمایش عملی آنها با تکنیک های موجود در کشور انجام پذیرفته است ، در مورد لیتوگرافی هیچ تحقیق سازمان یافته و مشخصی که به جزئیات این فرآیند بپردازد، انجام ن...
15 صفحه اولفرایند ناخالصی سازی در ساخت مدارهای تجمعی سیلیکون
مدارهای تجمعی قلب سیستمهای الکترونیکی را تشکیل می دهند. با توجه به اینکه تمامی علوم و تکنولوژی های پیشرفته وابسته به تکنولوژی الکترونیک هستند، لذا کشوری که قادر به طراحی و ساخت مدارهای تجمعی مورد نیاز خود نباشد، اساسا وابسته به کشورهای دیگر است . گرچه با توجه به پیشرفتهای عظیمی که در این رشته صورت گرفته، ورود کشور ما به صحنه تکنولوژی ساخت مدارهای تجمعی تا حدودی دیر است ، اما با یک برنامه ریزی ا...
15 صفحه اولتاثیر کاشت یونی ژرمانیم در فرآیند ایجاد اکسید حرارتی سیلیکون
سرعت اکسید شدن در سیلیکون می تواند در اثر وجود ناخالصی ها تغییر کند.
متن کاملنظام مناسب جهت حمایت از حقوق مالکیت فکری در طرح ساخت مدارهای یکپارچه
تحصیل نظام مناسب جهت حمایت از حقوق مالکیت فکری در طرح ساخت مدارهای یکپارچه از دههی هشتاد میلادی، با احراز ناکارآمدی نظام حق اختراع و مالکیت ادبی و هنری، یکی از دغدغه های فعالان این صنعت بوده است. پیش بینی نظام خاص حمایتی در قوانین ملی و به تبع آن معاهده ی واشنگتن و در نهایت موافقت نامه ی تریپس پاسخی به این نیاز می باشد. اما، در عمل همچنان حق اختراع از مقبولیت عمومی بیشتر برخوردار بوده و نظام خ...
متن کاملمدل سازی فرآیند کلرسیون سیلیکون
در این پژوهش به مدل سازی فرآیند کلرسیون سیلیکون پرداخته شده است. این فرآیند درون یک راکتور بستر سیال انجام می شود. مدل کردن این فرآیند باعث رسیدن به شرایط عملیاتی بهینه و تولید محصول با کیفیت خواهد شد. برای مدل کردن این فرآیند از مجموعه ای از مدل ها که شرایط هیدرودینامیکی بستر سیال و سینتیک واکنش را شبیه سازی می کنند، استفاده شده است. به طوریکه از مدل ارائه شده توسط ون و موری، برای محاسبه قطر ح...
15 صفحه اولمنابع من
با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید
ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده{@ msg_add @}
نوع سند: پایان نامه
وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه فردوسی مشهد - دانشکده علوم
میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com
copyright © 2015-2023