نتایج بررسی ها نشان می دهد که با افزایش فلوی گاز نیتروژن، مقاومت الکتریکی و مقاومت ویژه لایه ها افزایش می یابد. این افزایش مقاومت را می توان به دو عامل نسبت داد : با افزایش فلوی گاز نیتروژن، ترکیبات aln در فیلم، افزایش می یابد با توجه به اینکه aln ماده ای با گاف انرژی بزرگ است، در حالیکه tin یک رسانای خوب است در نتیجه افزایش میزان aln در ترکیب باعث افزایش گاف انرژی ترکیب شده، که این امر باعث اف...

لایه¬ی نازک لایه¬ای از مواد است که ضخامت آن در گستره¬ی کسری ازیک نانومتر تا چند میکرومتر باشد و در¬واقع لایه¬های اتمی به دقت طراحی شده¬ای از انواع مواد اعم ازفلزات ، عایق¬ها و نیمرساناها هستند. نیترید آلومینیوم یکی ازمورد علاقه¬مند ترین نیمرساناهای ترکیبی گروه¬هایiii–v باداشتن ساختار تنگ پکیده ی شش گوشی وورتزیت توجه زیاد پژوهش¬گران را به خود جلب کرده است. روش¬های نهشت مختلفی برای تهیه یaln توسط...

دیود نورگسیل آلی دستاورد فناوری است که در آن از لایه های مختلف ترکیبات آلی استفاده شده است و نور را تحت روندی به نام فسفرسانس گسیل می کند که از مزایایی مانند ضخامت و وزن کمتر و همچنین کاهش انرژی، تولید گرمای کمتر و بازدهی بیشتر برخوردار است. روش های متفاوتی برای لایه نشانی oled وجود دارد که بعضی از آنها عبارتند از: تبخیر خلا، چاپ جوهرافشان، کندوپاش که شامل کندوپاش دیودی، کندوپاش تریودی، و کندو...

در این پژوهش به ساخت و بررسی ویژگی پوشش کامپوزیتی Cu-Ni3Al-MoS2 با روش رسوب فیزیکی بخار انجام شده است. جهت ساخت این پوشش با استفاده از روش پراکنش مگنترونی، از بهترین پارامترها برای ساخت پوشش استفاده شد. پوشش Cu-Ni3Al-MoS2 با توجه به حضور عناصر به کار رفته از خواص روانکاری و رسانایی خوبی برخوردار بوده و در صنایع هوایی در نواحی و اتصالاتی که تحت لغزش قرار می گیرند به کار گرفته می شود. بدین منظور ...

آلومینیوم نیترید ( aln )، یکی از جالب توجه ترین نیمه هادی های ترکیبی (iii-v ) با ساختار وورتزیت شش گوشی می باشد، دردهه گذشته با توجه به این واقعیت که این ماده خواص فیزیکی شگفت انگیز گوناگونی مثل گاف انرژی مستقیم (ev 6.2)، نقطه ذوب بالا (k 3273)، هدایت حرارتی بالا (w/mk 285) و ثابت دی الکتریک بسیار بالا (8.5) از خود نشان داده، توجه زیادی را به خود جلب کرده است. همچنین آلومینیوم نیترید با توجه به...

در این پژوهش نانو‌ساختارهای اکسید روی با روش احیاء‌ کربوترمال روی نانو‌صفحه‌ای از مس که با روش کندوپاش مگنترونی روی بستر سیلیکونی نشانده شد، رشد داده شدند و نانو‌ساختارهای حاصل از لحاظ ریخت سطحی با میکروسکوپ الکترونی روبشی اثر-میدانی (FE SEM ) و از لحاظ ساختاری با XRD و از لحاظ نورتابی با لامپ UV و همچنین از لحاظ جذب وبازتاب نور با طیف سنج UV-Vis-NearIR آنالیز شدند و تراکم عنصری با کمک طیف‌سنجی...

در این پژوهش، نتیجه­ های مربوط به تغییرهای ساختاری و ویژگی­ های مغناطیسی چند لایه ­ای Fe/Al/Fe رشد یافته بر روی زیرلایه ی Si(100) مورد مطالعه قرار گرفت. نانو لایه های نازک به روش کندوپاش مگنترونی RF لایه نشانی شدند به طوری که ضخامت هر لایه  nm30 می‌باشد. نتیجه­ های تحلیل XRD  نشان داد جهت ترجیهی  سه لایه ای Fe/Al/Fe در راستای (200)  می باشد. در ادامه به­ منظور بررسی رف...

در این پژوهش نانو ساختارهای اکسید روی با روش احیاء کربوترمال روی نانو صفحه ای از مس که با روش کندوپاش مگنترونی روی بستر سیلیکونی نشانده شد، رشد داده شدند و نانو ساختارهای حاصل از لحاظ ریخت سطحی با میکروسکوپ الکترونی روبشی اثر-میدانی (fe sem ) و از لحاظ ساختاری با xrd و از لحاظ نورتابی با لامپ uv و همچنین از لحاظ جذب وبازتاب نور با طیف سنج uv-vis-nearir آنالیز شدند و تراکم عنصری با کمک طیف سنجی ...

در کار حاضر، ساختار نامتجانس دو مؤلفه‌ای از آرایه نانومیله‌های اکسید روی (ZnO NRs) و ساختارهای اکسید مس (CuO) رشد داده می‌شود. نانومیله-های یک بعدی ZnO به کمک لایه جوانه‌زنی به‌وسیله‌ی روش شیمیایی‌تر در دمای پایین رشد داده می‌شوند. سپس فیلم نازک اکسید مس با اکسایش حرارتی فیلم نازک Cu نهشت‌شده با کندوپاش مگنترونی بر ZnO NRs به منظور افزایش و گسترش جذب اپتیکی در ناحیه مرئی تشکیل می‌شود. مشخصه‌های...

در این پژوهش پوشش تانتالم به روش کندوپاش مگنترونی جریان مستقیم روی سیلیکون (۱۰۰) و فولاد زنگ‌نزن L۳۱۶ لایه‌نشانی شد. خواص ساختاری پوشش تانتالم به کمک آزمون پراش پرتو ایکس ارزیابی شده و از میکروسکوپ‌های الکترونی عبوری و روبشی و همچنین میکروسکوپ نیروی اتمی جهت بررسی سطح مقطع و مورفولوژی سطح پوشش استفاده شد. افزون بر این، رفتار خوردگی پوشش تانتالم در مقایسه با فولاد زنگ‌نزن L۳۱۶ به کمک آزمون‌ پلار...