از تصاویر afm جهت بررسی مورفولوژی سطح لایه ها و برای سه نمونه (0c 100، 0c 200و 0c 300)انجام دادیم. نشان داده شد که لایه ها به صورت تقریبا یکدست نهشته شده و در دو دمای 0c 100، 0c 200 نمونه ها به صورت منظم و دانه ای تشکیل یافته است ولی در دمای دیگر خصوصاً بر زیر لایه سیلیکون، سطح صافتر به نظر می رسد. با بررسی طرح پراش اشعه x (xrd) متوجه تشکیل لایه و دانه های بلوری در همه نمونه ها شده و شاهد تغی...

در این تحقیق با استفاده از روش کندوپاش مغناطیسی DC نانولایه‌های نقره با ضخامت nm 100 بر روی شیشه سفید (به ضخامت mm 4( برای استفاده به عنوان آینه خورشیدی در دماهای زیرلایه متفاوت انباشت شد. تاثیر افزایش دمای زیرلایه (K 500-300) در هنگام لایه‌نشانی بر رشد نانوذرات نقره بررسی شد. خواص لایه‌های نقره با دستگاه‌های XRD و SEM مورد بررسی قرار گرفت. لایه نقره کندوپاشی در دماهای مختلف زیرلایه از مدل ساخت...

سطح آینه ای تجاری و صنعتی موجود در بازار مصرف، عمدتا بوسیله آبکاری شیمیایی تهیه می شود که همگی دارای یک خصوصیت اپتیکی می باشند و امکان تغییرات اپتیکی از نظر میزان انعکاس، جذب و شکست تقریبا وجود ندارد. مزید بر آن پسمانهای حمام شیمیایی این روش، مشکلات و معضلات زیست محیطی فراهم می سازد. با مقایسه و تکیه بر کاستیها و ناکارآمدیهای روش متداول امروزی، مگنترون اسپاترینگ ‏‎(magnetron-sputt)‎‏ بسیار روش ...

هدف اصلی این تحقیق، بررسی خواص ساختاری و مغناطیسی لایه نازک fept نسبت به دمای بازپخت است. لایه های نازک fept به روش کندوپاش روی زیرلایه شیشه ای با نرخ                          6 و با توان w 110 رسوب داده شدند. خلأ اولیه محفظه کندوپاش برابر torr 7-10 5 و فشار گاز آرگون mtorr 3 در نظر گرفته شد. پس از تهیه نمونه ها، در محدوده 650-450 به مدت 30 دقیقه بازپخت شدند. شناسایی فازی لایه نازک با استفاده ا...

توسعه ی فن آوری خصوصاً در 25 سال گذشته عاملی شد تا لایه نشانی به روش کندوپاش پلاسمایی در زمینه های متنوع علمی، تحقیقاتی و صنعتی توسعه یابد. هدف ازانجام این پروژه، تعیین پارامترهای پلاسمایی دستگاه کندوپاش مکا 2000 است که لایه نشانی ها براساس این پارامترها انجام می یابد. پلاسمای مورد مطالعه، پلاسمای آرگون و منبع تغذیه، مگنترون dc است. در ابتدا پروب و فلنجه ی مناسب طراحی شده و روی دستگاه نصب می ش...

هدف اصلی این تحقیق، بررسی خواص ساختاری و مغناطیسی لایه نازک FePt نسبت به دمای بازپخت است. لایه‌های نازک FePt به روش کندوپاش روی زیرلایه شیشه ای با نرخ                          6 و با توان W 110 رسوب داده شدند. خلأ اولیه محفظه کندوپاش برابر Torr 7-10 5 و فشار گاز آرگون mTorr 3 در نظر گرفته شد. پس از تهیه نمونه‌ها، در محدوده 650-450 به مدت 30 دقیقه بازپخت شدند. شناسایی فازی لایه نازک ب...

این مقاله به بررسی خواص فیزیکی و مکانیکی پوشش‌های سخت و فوق سخت ایجاد شده به روش کندوپاش مغناطیسی می-پردازد. سپس خواص مکانیکی لایه‌های سخت بررسی شده،موضوعاتی مانند؛ پوشش‌های نانوکامپوزیتی با سختی افزایش یافته، پایداری حرارتی آن‌ها، مقاومت به اکسیداسیون آن‌ها در دمای بالای 1000، پوشش‌های آمورف مقاوم به حرارت در دمای بالای 1000 و پوشش‌های نانوکامپوزیتی سخت پیشرفته جدید با چقرمگی افزایش یافته بررس...

لایه های نازک زیرکونیوم، به وسیله روش کندوپاش مغناطیسی dc بر روی زیرلایه سیلیکون انباشت شدند و سپس در دماهای ( 750-150) و زمان های متفاوت (min 180و60 ) با شار اکسیژن، بازپخت گردیدند. روش پراش پرتو - x برای مطالعه ساختار بلوری استفاده شد. نتایج، ساختاری مکعبی از فاز ارتورهمبیک اکسید زیرکونیوم برای لایه های بازپخت شده تحت 150 و ساختار مرکبی از منوکلینیک و تتراگونال برای لایه های بازپخت شده در دما...

در این رساله خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی لایه های نازک کربن مس مورد بررسی قرار گرفته است. لایه های نازک کربن مس بر روی زیر لایه شیشه تهیه شدند. این لایه ها به دو روش کندوپاش مغناطیسی rf و dc در زمانهای مختلف در دمای اتاق لایه نشانی شدند. سپس با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمی afm))، edx، میکروسکوپ روبشی (sem)، طیف پراش اشعه ایکس(xrd)، طیف سنج ft-ir و جذب نوری uv_vis مورد مطالعه و بررسی قرار...

در این تحقیق لایه‌های نازک N:ZnO روی زیر لایه شیشه با استفاده از کندوپاش DC در فشار کاری Torr 2-10×2 در مخلوط گازهای آرگون و نیتروژن لایه نشانی شدند. ضخامت، ریخت‌شناسی، ساختار کریستالی و خواص اپتیکی لایه‌ها در سه زمان کندوپاش مختلف شناسایی شدند. با افزایش زمان لایه نشانی، ضخامت لایه‌ها، زبری سطح و ارتفاع دانه‌ها افزایش می‌یابد. لایه‌ها دارای بافت قوی کریستالی در راستای (002) با ساختار هگزاگونال...