اکسید تنگستن یک نیمه رسانای نوع n با گاف انرژی پهن است. این اکسید فلزی خواص و کاربردهای بسیاری از جمله خاصیت الکتروکرومیک، فوتوکاتالیست و حسگر گازی دارد. از این بین خواص رنگزایی آن در حضور گاز هیدروژن بسیار مورد توجه می باشد. هیدروژن گازی بدون بو، رنگ و طعم است که مولکول این گاز بسیار سبک بوده و قابلیت نفوذ بالایی دارد. امروزه گاز هیدروژن به عنوان سوخت تمیز در مصارف خانگی، صنعت و خصوصاً بخش حمل ...

هدف از این تحقیق تولید نانوذرات نقره به روش کندوسوز لیزری در محلول های مختلف و مشخصه یابی آن ها می باشد . برای این منظور از لیزر پالسی نئودمیم یاگ در هارمونیک اول آن با طول موج 1064 نانومتر و آهنگ نرخ تکرار 10 هرتز و پهنای پالس 6 نانوثانیه ، انرژی پالس 270 میلی ژول بر پالس برای تولید نانوذرات نقره در سه محلول آب مقطرخالص دوبار یونیزه ، محلول 8/0 درصد پلیمر پلی وینیل الکل و محلول استون خالص استف...

توسعه ی فن آوری خصوصاً در 25 سال گذشته عاملی شد تا لایه نشانی به روش کندوپاش پلاسمایی در زمینه های متنوع علمی، تحقیقاتی و صنعتی توسعه یابد. هدف ازانجام این پروژه، تعیین پارامترهای پلاسمایی دستگاه کندوپاش مکا 2000 است که لایه نشانی ها براساس این پارامترها انجام می یابد. پلاسمای مورد مطالعه، پلاسمای آرگون و منبع تغذیه، مگنترون dc است. در ابتدا پروب و فلنجه ی مناسب طراحی شده و روی دستگاه نصب می ش...

در این تحقیق  کیفیت اپتیکی و  عملکرد لیزری میله های لیزری Ce,Nd:YAG مورد مطالعه تجربی قرار گرفته است. برای این منظور دو بلور Ce,Nd:YAG رشد داده شده و از آنها میله های لیزری ساخته شده و مقایسه نسبتا جامعی از خواص اپتیکی و لیزری دو میله لیزری آنیل شده در هوا و ازت و نیز میله لیزر Nd:YAG  انجام شده است. و نتایج حاکی از کیفیت اپتیکی و عملکرد لیزری مناسب تر  میله لیزر Ce,Nd:YAG  آنیل شده در ازت دارد.

در این مقاله، فرایند لایه نشانی با لیزر پالسی و در حضور گاز پس‌زمینه به روش مونت کارلو شبیه‌سازی شده است. به طور خاص رشد فلز آلومینیوم در محیط گاز زنون پس‌زمینه و در فشار 50 میلی تور شبیه‌سازی شده است. فواصل هدف - زیرلایه برابر با 10، 15، 20، 25 و 30 میلی متر در شبیه‌سازی‌ها مورد استفاده قرار گرفته‌اند. اطلاعات مکانی و انرژی توده یون‌های پلاسمایی شکل گرفته در این روش و نیز اطلاعات مشابه برای یو...

در سری اول لایه نشانی نمونه های اکسید نقره به مدت 2 ساعت و تحت جریان ma 20 برروی شیشه و سیلیکون در دماهای مختلف لایه نشانی شدند با انجام آنالیز پراش اشعه x در نمونه های سیلیکون فاز بلوری اکسید نقره مشاهده شد در صورتی که در نمونه های شیشه فاز بلوری اکسید نقره مشاهده نشد که برای دسترسی به فاز بلورین نمونه ها بازپخت شدند که پس از بازپخت فاز بلوری مشاهده گردیدکه با انجام آنالیز xps بر روی یکی از نم...

چکیده: کاربرد لایه های نازک نه تنها در اتصال قطعات منفرد به یکدیگر بلکه همچنین در تهیه خود قطعات اعم از فعال و نافعال، امکانات جدید میکروریزه شدن را فراهم آورده است. این امر از آنجا ناشی می شود که یکی از ابعاد (از دیدگاه ماکروسکوپی) تقریباً صفر است، و ضخامت عنصر تنها با ضخامت زیرلایه که فرآیند انباشت روی آن انجام می گیرد، تعیین می شود. لایه های نازک تیتانیوم آلومینیوم نیترید با شیوه های متفاو...

امروزه کاربرد وسیع تخلیه ی الکتریکی در تولید پلاسما های غیر حرارتی روشی است که در چند دهه ی اخیر مورد توجه قرار گرفته است . پلاسما ی تخلیه ی الکتریکی اعم از تخلیه های dc، rf و مایکروویو، کاربردهای فراوانی در زمینه های مختلف پزشکی ، دارو سازی ، هوا فضا ،صنعت و... دارد . یکی از عمده ترین کاربرد های پلاسمای تخلیه الکتریکی، کندوپاش می باشد . از کندوپاش پلاسمایی در زمینه ی لایه نشانی سطح رساناها ، ن...