توسعه ی فن آوری خصوصاً در 25 سال گذشته عاملی شد تا لایه نشانی به روش کندوپاش پلاسمایی در زمینه های متنوع علمی، تحقیقاتی و صنعتی توسعه یابد. هدف ازانجام این پروژه، تعیین پارامترهای پلاسمایی دستگاه کندوپاش مکا 2000 است که لایه نشانی ها براساس این پارامترها انجام می یابد. پلاسمای مورد مطالعه، پلاسمای آرگون و منبع تغذیه، مگنترون dc است. در ابتدا پروب و فلنجه ی مناسب طراحی شده و روی دستگاه نصب می ش...

در این مقاله، فرایند لایه نشانی با لیزر پالسی و در حضور گاز پس‌زمینه به روش مونت کارلو شبیه‌سازی شده است. به طور خاص رشد فلز آلومینیوم در محیط گاز زنون پس‌زمینه و در فشار 50 میلی تور شبیه‌سازی شده است. فواصل هدف - زیرلایه برابر با 10، 15، 20، 25 و 30 میلی متر در شبیه‌سازی‌ها مورد استفاده قرار گرفته‌اند. اطلاعات مکانی و انرژی توده یون‌های پلاسمایی شکل گرفته در این روش و نیز اطلاعات مشابه برای یو...

در سری اول لایه نشانی نمونه های اکسید نقره به مدت 2 ساعت و تحت جریان ma 20 برروی شیشه و سیلیکون در دماهای مختلف لایه نشانی شدند با انجام آنالیز پراش اشعه x در نمونه های سیلیکون فاز بلوری اکسید نقره مشاهده شد در صورتی که در نمونه های شیشه فاز بلوری اکسید نقره مشاهده نشد که برای دسترسی به فاز بلورین نمونه ها بازپخت شدند که پس از بازپخت فاز بلوری مشاهده گردیدکه با انجام آنالیز xps بر روی یکی از نم...

چکیده: کاربرد لایه های نازک نه تنها در اتصال قطعات منفرد به یکدیگر بلکه همچنین در تهیه خود قطعات اعم از فعال و نافعال، امکانات جدید میکروریزه شدن را فراهم آورده است. این امر از آنجا ناشی می شود که یکی از ابعاد (از دیدگاه ماکروسکوپی) تقریباً صفر است، و ضخامت عنصر تنها با ضخامت زیرلایه که فرآیند انباشت روی آن انجام می گیرد، تعیین می شود. لایه های نازک تیتانیوم آلومینیوم نیترید با شیوه های متفاو...

امروزه کاربرد وسیع تخلیه ی الکتریکی در تولید پلاسما های غیر حرارتی روشی است که در چند دهه ی اخیر مورد توجه قرار گرفته است . پلاسما ی تخلیه ی الکتریکی اعم از تخلیه های dc، rf و مایکروویو، کاربردهای فراوانی در زمینه های مختلف پزشکی ، دارو سازی ، هوا فضا ،صنعت و... دارد . یکی از عمده ترین کاربرد های پلاسمای تخلیه الکتریکی، کندوپاش می باشد . از کندوپاش پلاسمایی در زمینه ی لایه نشانی سطح رساناها ، ن...

سطح آینه ای تجاری و صنعتی موجود در بازار مصرف، عمدتا بوسیله آبکاری شیمیایی تهیه می شود که همگی دارای یک خصوصیت اپتیکی می باشند و امکان تغییرات اپتیکی از نظر میزان انعکاس، جذب و شکست تقریبا وجود ندارد. مزید بر آن پسمانهای حمام شیمیایی این روش، مشکلات و معضلات زیست محیطی فراهم می سازد. با مقایسه و تکیه بر کاستیها و ناکارآمدیهای روش متداول امروزی، مگنترون اسپاترینگ ‏‎(magnetron-sputt)‎‏ بسیار روش ...

نتایج بررسی ها نشان می دهد که با افزایش فلوی گاز نیتروژن، مقاومت الکتریکی و مقاومت ویژه لایه ها افزایش می یابد. این افزایش مقاومت را می توان به دو عامل نسبت داد : با افزایش فلوی گاز نیتروژن، ترکیبات aln در فیلم، افزایش می یابد با توجه به اینکه aln ماده ای با گاف انرژی بزرگ است، در حالیکه tin یک رسانای خوب است در نتیجه افزایش میزان aln در ترکیب باعث افزایش گاف انرژی ترکیب شده، که این امر باعث اف...

دیود نورگسیل آلی دستاورد فناوری است که در آن از لایه های مختلف ترکیبات آلی استفاده شده است و نور را تحت روندی به نام فسفرسانس گسیل می کند که از مزایایی مانند ضخامت و وزن کمتر و همچنین کاهش انرژی، تولید گرمای کمتر و بازدهی بیشتر برخوردار است. روش های متفاوتی برای لایه نشانی oled وجود دارد که بعضی از آنها عبارتند از: تبخیر خلا، چاپ جوهرافشان، کندوپاش که شامل کندوپاش دیودی، کندوپاش تریودی، و کندو...

پیوند جوزفسون از سه لایه تشکیل شده است. لایه ی پایه ی پیوند جوزفسون، در اغلب ساختارها، لایه ی نازک نایوبیوم می باشد، که دو لایه ی دیگر بر روی آن قرار می گیرد. بنابراین، کیفیت این لایه، به طرز قابل توجه ای تعیین کننده ی کیفیت نهایی پیوند می باشد. یکی از روش های پرکاربرد برای لایه نشانی نایوبیوم، روش کندوپاش مگنترون dc می باشد. در فرآیند لایه نشانی، متغیرهای بسیاری بر کیفیت لایه ی حاصل تاثیرگذار ...

در این تحقیق لایه‌های نازک N:ZnO روی زیر لایه شیشه با استفاده از کندوپاش DC در فشار کاری Torr 2-10×2 در مخلوط گازهای آرگون و نیتروژن لایه نشانی شدند. ضخامت، ریخت‌شناسی، ساختار کریستالی و خواص اپتیکی لایه‌ها در سه زمان کندوپاش مختلف شناسایی شدند. با افزایش زمان لایه نشانی، ضخامت لایه‌ها، زبری سطح و ارتفاع دانه‌ها افزایش می‌یابد. لایه‌ها دارای بافت قوی کریستالی در راستای (002) با ساختار هگزاگونال...