در این مقاله لایه­های نازک نانوساختار مس و روی به روش لایه نشانی لیزر پالسی تهیه شده­ و ضرایب جذب و شکست غیرخطی این لایه ها با استفاده از روش روبش- z اندازه­گیری و بررسی شده است. جزئیات پارامترهای لایه نشانی لیزر پالسی برای هر دو فلز مس و روی ارائه شده است. برای انجام آزمایش روبش- z از لیزر موج   اندازۀ ضریب جذب و ضریب شکست غیرخطی لایه­های نازک نانوساختاری مس و روی به کمک نمودارهای آزمایش روبش-...

  در این مقاله لایه­های نازک نانوساختار مس و روی به روش لایه نشانی لیزر پالسی تهیه شده­ و ضرایب جذب و شکست غیرخطی این لایه‌ها با استفاده از روش روبش- z اندازه­گیری و بررسی شده است. جزئیات پارامترهای لایه نشانی لیزر پالسی برای هر دو فلز مس و روی ارائه شده است. برای انجام آزمایش روبش- z از لیزر موج   اندازۀ ضریب جذب و ضریب شکست غیرخطی لایه­های نازک نانوساختاری مس و روی به کمک نمودارهای آزمایش روب...

در این مقاله، پودر و لایه نازک نانوساختاری اکسید تیتانات نئودیم با ترکیبات فازی مختلف به کمک روش سل ? ژل تهیه شد. سل های تهیه شده دارای توزیع اندازه ذرات باریک در محدوده nm 26- 20 بودند. آنالیز XRD نشان داد که پودرهای تهیه شده با نسبت مولی حاوی مخلوط فازی Nd4Ti9O24، Nd2Ti4O11 ، و Nd3Ti4O12 ، با نسبت مولی حاوی مخلوط فازی Nd2TiO5 و Nd2O3 و برای نسبت مولی مساوی Nd:Ti فاز خالص Nd3TiO12 بدست آمد. ان...

در این کار ضمن ارایه یک مدل ریاضی برای محاسبه مقاومت ویژه لایه های نازک, تغییرات مقاومت الکتریکی ویژه بر حسب ضخامت برای تک لایه ایهای نازک ni و چند لایه ایهای نازک ni/cu مورد مطالعه قرار گرفت. لایه ها به روش الکتروانباشت از یک محلول الکترولیت شامل یونهای ni و cu رشد یافتند. ضخامت لایه ها از 200 تا 2000نانومتر تغییر داده شد. نقش پراش پرتوایکس (xrd) تعدادی از لایه های نازک ni/cu بیانگر ساختار چند...

فیلم نازک (نازک لایه)، لایه‌ای از مواد آلی با ضخامتی در حد نانومتر تا میکرومتر است. سنتز کنترل‌شده فیلم‌های نازک موضوع مهمی در کاربردهای آنهاست. فیلم های نازک آلی با ضخامت نانومتری، ساختارهایی مفید برای کاربرد در حسگرها، شناساگرها، نمایشگرها و اجزای مدارهای الکترونیکی به‌شمار می‌آیند. لایه نشانی چرخشی و لانگمور- بلاجت از روش‌های کاربردی تهیه فیلم‌های نازک محسوب می‌شوند. در لایه نشانی چرخشی، نیر...

در این پروژه حذف باکتری های اشریشیا کلای (e.coli) و استافیلوکوکوس اورئوس (s.aureus) از آب با استفاده از راکتور فوتوکاتالیستی لایه نشانی شده با نانوساختارهای دی اکسید تیتانیوم مورد ارزیابی قرار گرفت. لایه ی نانوساختاری دی اکسید تیتانیوم، روی زیرلایه ی توری آلومینیومی اکسیدشده و اکسید نشده با دو روش اسپری و سل ژل ایجاد شد. آنالیز ساختار بلوری لایه ها ی نازک دی اکسیدتیتانیوم، توسط طیف پراش اشعه...

هدف از تحقیق حاضر بررسی تأثیر افزایش مدت زمان رسوب دهی و در نتیجه افزایش ضخامت بر خواص لایه های نازک تیتانیم ایجاد شده روی زیرلایه فولاد زنگ نزن 316L با استفاده از روش رسوب دهی فیزیکی بخار (PVD) است. به این منظور، عملیات رسوب دهی در مدت زمان های مختلف 5، 10، 15 و 20  دقیقه انجام شد تا لایه هایی با ضخامت های مختلف ایجاد شود. سپس ضخامت لایه های نازک تیتانیم با استفاده از دستگاه پروفیل سنج اندازه ...

در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ITO) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت‌های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (XRD) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (XRR) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...

با استفاده از تکنیک پرتو الکترونی در دمای اتاق 5 نمونه فیلم co/cu روی زیر لایه سیلیکون (si(lll)) در ضخامت های متفاوت رشد داده، و با تکنیک پراش سنجی اشعه x مشخصه یابی ساختاری آنها مورد بررسی قرار گرفت. با کمک فرمول شرر ضخامت مربوط به کریستال sio2 به اندازه 93nm بدست آمد این مقدار در محاسبات ضخامت کل همه نمونه ها در نظر گرفته شد. از تکنیک بازتاب سنجی اشعه x میزان رشد لایه ای و یا جزیره ای نمونه ه...