دراین پروژه ابتدالایه های نازک شفاف رساناوکاربردهای آن معرفی می شود.سپس روش های ساخت لایه های نازک ونیز برخی از روشهای مشخصه یابی این لایه ها مورد بررسی قرار می گیرد.درنهایت به مطالعه تاثیر پارامترهایی پرداخته می شود که در تعیین خواص لایه های نازک شفاف رسانا نقش عمده ای ایفا می کنند.

چکیده : در ساخت لایه های نازک در سال های اخیر تحولات وسیعی صورت گرفته است ، که خود ناشی از پیشرفت در فناوری خلاء، تولید میکروسکوپ های الکترونی و ساخت وسایل دقیق و پیجیده ی شناسایی مواد است. مطرح شدن مباحثی نظیر میکرو الکترونیک، اپتیک و نانو فناوری مدیون اهمیت پوشش لایه های نازک می باشد. با توجه به عملکرد و خواص لایه های نازک ، می توان از آن ها مخصوصاً جهت بهبود فناوری هایی ، نظیر سلول های خ...

لایه های نازک شفاف رسانا از نانولوله های کربنی چند جداره/ نانوسیم نقره با استفاده از پوشش دهی چرخشی ساخته شدند. اثر بازپخت نمونه های ساخته شده از دمای اتاق تا دمای ºc350 به مدت 30 دقیقه به منظور بهبود خواص الکتریکی و نوری لایه ها بررسی گردید. اندازه گیری ها نشان می داد که بازپخت لایه های نازک ساخته شده در بهبود خواص لایه ها مؤثرند. دمای بازپخت بهینه برای بهبود خواص مذکور، دمای ºc285 به دست آمد....

در این پژوهش لایه های نازک رسانا و شفاف fto را به روش اسپری بر روی زیرلایه های شیشه لایه نشانی کرده ایم. تاثیر حجم محلول (ضخامت لایه ها) و نسبت آلایش f را بر خواص الکتریکی و اپتیکی لایه ها مورد بررسی قرار گرفت. مورفولوژی نانوساختارها و نحوه رشد آنها را توسط تصاویر sem مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفت. طیف عبور اپتیکی توسط دستگاه طیف سنج optics ocean و مقاومت سطحی لایه ها بر حسب حجم محلول (ضخامت لای...

بر اساس روش متعارف تداخل نوری، با اندازه گیری میزان جابه جایی فریزهای تداخلی، ضخامت لایه نازک به دست می آید. جهت افزایش دقت در سنجش ضخامت های کم و کاهش خطاهای اندازه گیری، نمودار شدت فریزها قبل و بعد از فرآیند ایجاد پله، رسم می شود. با اندازه گیری میزان جابه جایی فریزهای تداخلی، امکان اندازه گیری ضخامت لایه های نازک از مرتبه چند نانومتر فراهم می شود. همچنین با بهره گیری از جابه جایی نمودار شدت ...

  در این پژوهش لایه‌های نازک رسانا و شفاف FTO را به روش اسپری بر روی زیرلایه‌های شیشه لایه نشانی کرده‌ایم. تاثیر حجم محلول (ضخامت لایه‌ها) و نسبت آلایش F را بر خواص الکتریکی و اپتیکی لایه‌ها مورد بررسی قرار گرفت. مورفولوژی نانوساختارها و نحوه رشد آنها را توسط تصاویر SEM مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفت. طیف عبور اپتیکی توسط دستگاه طیف‌سنج Optics Ocean و مقاومت سطحی لایه‌ها بر حسب حجم محلول (ضخامت ل...

لایه?های نازک اکسیدآهن با ضخامت 300 نانومتر به روش لایه ?نشانی الکتروشیمیایی بر روی شیشه رسانا FTO �نشانده و در دمای 300 درجه سانتی?گراد پخت شده?اند. به منظور تعیین ساختار، مورفولوژی سطح ، بررسی خواص الکتروکرومیک و اپتیکی لایهنازک اکسید آهن به ترتیب از آنالیزهای XRD،SEM ، ولتامتری چرخه?ای (CV)، کرونوآمپرومتری (CA) و �UV/Visاستفاده گردید. نتایج نشان می?دهند که لایه نازک اکسید آهن با فاز کریستالی...

در این مقاله اندازه گیری های طیف نگاری در محدوده فرکانس khz 10 تا mhz 4 در دماهای متفاوت برای احساسگرهای نیمه رسانا و لایه نازک au/clmgpc/au گزارش شده است. تغییرات رسانائی الکتریکی(a.c) به دست آمده با فرکانس زاویه ای به صورت تابع تغییر می کند. توان n در فرکانس های بالا با تقریب خوبی برابر یک است. اندازه گیری ها در این تجربه مکانیزم رسانائی الکتریکی در دماهای پائین و فرکانس های بالا در این لایه ...

با پیشرفت فناوری در طی سالهای اخیر، توجه به سمت مینیاتوری کردن قطعات اپتوالکترونیکی و فناوری نانو روز افزون شده است. لایه های نازک از جمله ساختارهایی می باشند که با بروز نانو فناوری بیشترین تغییر و تحول را به خود اختصاص داده اند. در این پایان نامه لایه های نازک اکسید روی با ضخامت متوسط nm 200، نانو میله های با قطر 160 نانومتر و نانو ذرات با ابعاد 150 نانومتر به روش سل – ژل آماده شده اند. در ...

اکسید روی (ZnO) به عنوان ماده نیمه ‌رسانا با شکاف نواری مستقیم و پهن، اهمیت زیادی در ساخت قطعات الکترونیکی مانند ترانزیستورهای اثر میدانی و قطعات اپتو الکترونیکی نظیر دیود های نور گسیل و همچنین آشکار سازی نوری دارد. در این پژوهش با استفاده از لایه ‌نشانی به روش سل – ژل، پوشش ‌های لایه نازک از اکسید روی آلاییده شده با درصدهای مختلف منیزیم (6%، 8%، 10%) تولید شد. ایجاد لایه نازک به روش پوشش چرخشی...