سطوح فوق آبگریز سطوحی هستند که به علت وجود لغزش از خاصیت خود تمیز شوندگی بالایی برخوردار بوده و در کاربردهایی مثل کاهش پسای اصطکاکی، ضد خوردگی، ضد جلبک و خودتمیزشوندگی استفاده می شوند. امروزه روش های مختلفی برای ایجاد چنین سطوحی وجود دارد. با این وجود چالش اصلی، تولید سطح آبگریز در مقیاس وسیع و بر روی زیرپایه های مختلف است. یکی از روش های تولید سطوح فوق آب گریز، آب گریز کردن ذرات و سپس لایه نشا...

در حال حاضر، تکنیک‌های متعددی جهت ایجاد پوشش‌های با کیفیت و دارای خواص ویژه، بر سطح منسوجات مورد استفاده قرار می‌گیرند. در سال‌های اخیر علاوه بر روش‌های معمول، تکنولوژی‌های جدیدی معرفی شده‌اند که می‌توانند سطوح هوشمندی را بر سطح منسوجات به وجود آورند که در حال حاضر برای صنعت نساجی شناخته شده نیستند. در طی چند دهه ی گذشته، کاهش سایز به محدوده‌ی نانومتر، یکی از مهمترین جهت گیری‌های پیشرفت علم و ت...

لایه نشانی متوالی لایه های فوق نازک نانومتری ترکیبات سیلیکونی نیترید سیلیسیم، پلی سیلیکون و دی اکسید سیلیسیم به روش لایه نشانی شیمیایی از فاز بخار در فشار پایین (lpcvd) و بررسی خواص لایه ها، سینتیک و ترمودینامیک تشکیل آنها هدف نهایی این پروژه کارشناسی ارشد است. مواد اولیه مورد استفاده درلایه نشانی ها عبارتند از تری کلرو سیلان (tcs) ، دی کلرو سیلان (dcs) ، سیلان(sih4) ، نیتروژن(n2) ، اکسیژن (o2)...

در این تحقیق پوشش های نانوساختار از جنس ticx از طریق فرآیند لایه نشانی از فاز بخار به کمک پلاسما (pacvd) و با هدف بهبود خواص مکانیکی، سایشی و تریبولوژیک، بر روی نمونه هایی از جنس فولاد ابزار گرم کار h11 نشانده شدند. پوشش ها در ولتاژ ثابت و زمان لایه نشانی 120 دقیقه لایه نشانی شدند. همچنین متغیرهای انتخاب شده برای فرآیند پوشش دهی شامل دما، نسبت های گازی ticl4/ch4 و دوره های کاری بودند. بررسی پوش...

بررسی روش ساخت و کیفیت لایه‏های نازک نیترید سیلیکون آمورف رسوب داده شده به روش لایه‏نشانی شیمیایی از فاز بخار در فشار پایین1 از مخلوط رادیکالهای آزاد تشکیل شده از سیستم گازی نیتروژن، آمونیاک و تری کلرو سیلان هدف این مقاله است. تبدیل گازهای اولیه به رادیکالهای آزاد گازی با عبور دادن آنها از روی کاتالیزور سرامیکی پلاتین ایریدیوم آلومینا در دمای 600 درجه سانتیگراد انجام شد. تغییرات سینتیک رشد لایه...

در این تحقیق، پارچه پلی­استری با پوششی از نانوذرات پلی (3- آلکیل­تیوفن) به روش پلیمرشدن شیمیایی و لایه نشانی بخار شیمیایی تهیه شده است. پوشش­دهی منسوج  در محفظه پلیمرشدن در مدت زمان مشخص و دمای مورد نیاز (°C40 و h 8 در پلیمرشدن همزمان و°C65 و h2 در روش لایه نشانی بخار شیمیایی) انجام شده است. مقاومت سطحی نمونه­های پوشش­دهی شده توسط ولت متر دیجیتال اندازه­گیری شده است که درروش لایه نشانی بخار شیم...

در این تحقیق، پارچه پلی­استری با پوششی از نانوذرات پلی (3- آلکیل­تیوفن) به روش پلیمرشدن شیمیایی و لایه نشانی بخار شیمیایی تهیه شده است. پوشش­دهی منسوج  در محفظه پلیمرشدن در مدت زمان مشخص و دمای مورد نیاز (°c40 و h 8 در پلیمرشدن همزمان و°c65 و h2 در روش لایه نشانی بخار شیمیایی) انجام شده است. مقاومت سطحی نمونه­های پوشش­دهی شده توسط ولت متر دیجیتال اندازه­گیری شده است که درروش لایه نشانی بخار شیم...

هدف از پژوهش حاضر ارزیابی و مقایسه مشخصه های ساختار سطحی آلیاژ ti 6al 4v پس از انجام دو فرآیند مهندسی سطح شامل فرآیند     نیتروژن دهی پلاسمایی و فرآیند دوتایی نیتروژن دهی پلاسمایی و لایه نشانی نیترید تیتانیم به وسیله رسوب فیزیکی از فاز بخار است. عملیات     نیتروژن دهی پلاسمایی در دماهای 700، 750، 800 و °c850 به مدت 10 ساعت با ترکیب گاز نیتروژن و هیدروژن با نسبت 4 به 1 انجام شد. جهت انجام فرآیند...

در این تحقیق، پارچه پلی­استری با پوششی از نانوذرات پلی (3- آلکیل­تیوفن) به روش پلیمرشدن شیمیایی و لایه نشانی بخار شیمیایی تهیه شده است. پوشش­دهی منسوج  در محفظه پلیمرشدن در مدت زمان مشخص و دمای مورد نیاز (°c40 و h 8 در پلیمرشدن همزمان و°c65 و h2 در روش لایه نشانی بخار شیمیایی) انجام شده است. مقاومت سطحی نمونه­های پوشش­دهی شده توسط ولت متر دیجیتال اندازه­گیری شده است که درروش لایه نشانی بخار شیم...

کار بر روی پروژه "شبیه سازی، طراحی و تهیه ی اجزای مورد نیاز برای ساخت سامانه ی لایه نشانی pecvd"، با هدف لایه نشانی اکسیدسیلیکون به عنوان لایه ی محافظ در قطعات الکترونیک آغاز شد. در مراحل ابتداییِ تحقیق مشخص شد که اغلب لایه های دی الکتریک موجود در تکنولوژی مدارات مجتمع، از جمله دی الکتریک بین لایه ها، اکسید میدان، لایه های محافظ و حتی در مواردی اکسید گیت، با روش های لایه نشانی بخار شیمیایی در مح...