پوشاننده های دی اکسید تیتانیوم با قابلیت فعل و انفعالات وابسته به نور به خاطر رفتار خود تمیز شونده ی بسیار عالی، معروفند، جاییکه لایه بسیار نازک آب روی سطوح آبدوست تشکیل میشوند، آنها میتوانند به راحتی ذرات آلودگی را بشویند و از بین ببرند. در اینجا ما آماده سازی شفافیت و چسبندگی بصری آب و کاورهای دی اکسید تیتانیوم-دی اکسید سیلیکون را روی سطوح مختلف جهت ویژگیهای خود تمیزشوندگی گزارش میکنیم. لایه ...

کار بر روی پروژه "شبیه سازی، طراحی و تهیه ی اجزای مورد نیاز برای ساخت سامانه ی لایه نشانی pecvd"، با هدف لایه نشانی اکسیدسیلیکون به عنوان لایه ی محافظ در قطعات الکترونیک آغاز شد. در مراحل ابتداییِ تحقیق مشخص شد که اغلب لایه های دی الکتریک موجود در تکنولوژی مدارات مجتمع، از جمله دی الکتریک بین لایه ها، اکسید میدان، لایه های محافظ و حتی در مواردی اکسید گیت، با روش های لایه نشانی بخار شیمیایی در مح...

نانومیله­ های اکسیدروی به روش رسوب حمام شیمیایی (CBD) روی بستر سیلیکون بذردار به صورت عمودی و یکنواخت رشد داده شدند. از لایه نازک اکسیدروی که به روش کندوپاش بر روی بستر سیلیکونی لایه ­نشانی شد به عنوان لایه بذر استفاده شد. اثرات دما و زمان رشد بر خواص ساختاری و مورفولوژیکی نانومیله­ های اکسید روی با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی و پراش اشعه ایکس بررسی شد. مطالعات انجام شده نشان داد که است...

اکسید تیتانیوم و نیترید آلومینیوم را در شرایط به ترتیب فشار بالا و فشار بسیار پایین بر زیر لایه سیلیکونی رشد داده ایم و با استفاده از تکنیکهایی نظیر تابش سینکروترونی,( aes (auger electron spectroscopy و( sem (scanning electron microscope به مطالعه ساختار آنها پرداختیم. بررسیهای به عمل آمده نشان می دهند که فیلم آمورف اکسید تیتانیوم و یا نیترید آلومینیوم بر زیر لایه سیلیکون شکل گرفته است که این و...

هدف: آلودگی ناشی از کادمیوم از طریق پساب صنایع مختلف وارد محیط زیست می شود. این مطالعه با هدف بررسی کارایی حذف کادمیوم توسط ترکیب نانوفتوکاتالیستی دی اکسید تیتانیوم (tio2) و سیلیکای شلتوک برنج از محلول های آبی انجام گرفت. مواد و روش ها: حذف کادمیوم در این مطالعه تجربی در راکتورهای منقطع انجام شد. سیلیکای شلتوک برنج در ﻛﻮره ﺑﺎ ﺣـﺮارت c ˚800 به مدت 4 ساعت پس از اسید شویی ﺗﻬﻴﻪ شد. سیلیکای لایه نشا...

�لایه های نازک نیترید سیلیکون برروی زیرلایه بس کریستال سیلیکون و شیشه نازک بااستفاده از روش کندوپاش RF لایه نشانی شده اند. لایه نشانی یک بار در محیط گاز آرگن و بار دیگر در محیط گاز نیتروژن انجام شده� است. با تغییر توان لایه نشانی نسبت نیتروژن و سیلیکون موجود در لایه تغییرمی کند و لایه هایی با خواص نوری متفاوت به دست می آید. تأثیرات ناشی از تغییرات توان RF برروی خواص نوری و ترکیبات موجود در لایه...

لایه نشانی الیاف طبیعی بوسیله ی نانو ذرات دی اکسید تیتانیوم موجب ایجادخاصیت فوتوکاتالیستی و آب دوستی روی پارچه می شود. در این پژوهش، محلول حاوی ترکیب هیدروکسید تیتانیوم تحتph خنثی سنتز شده و سپس لایه نشانی روی پارچه ی پنبه ای در دمای پایین انجام پذیرفت و پس از عملیات دی هیدراته، نانوذرات دی اکسید تیتانیوم در الیاف پارچه به جای ماند. برای بررسی تاثیر افزودن نانوذرات دی اکسید تیتانیوم روی خواص فی...

هدف: آلودگی ناشی از کادمیوم از طریق پساب صنایع مختلف وارد محیط زیست می‌شود. این مطالعه با هدف بررسی کارایی حذف کادمیوم توسط ترکیب نانوفتوکاتالیستی دی اکسید تیتانیوم (TiO2) و سیلیکای شلتوک برنج از محلول‌های آبی انجام گرفت. مواد و روش‌ها: حذف کادمیوم در این مطالعه تجربی در راکتورهای منقطع انجام شد. سیلیکای شلتوک برنج در ﻛﻮره ﺑﺎ ﺣـﺮارت C ˚800 به مدت 4 ساعت پس از اسید شویی ﺗﻬﻴﻪ شد. سیلیکای لایه نش...

چکیده: در این رساله، اثر توان rf بر خواص لایه ی نازک sio2 بررسی شده است. دی اکسید سیلیکان با روش لایه نشانی بخار شیمیایی بکمک پلاسما بر زیرلایه ی gaas انباشت می شود. از این لایه بعنوان لایه ی دی الکتریک در افزاره های متشکل از ساختار فلز - اکسید – نیمرسانا (mos) استفاده می شود. مشخصه های لایه با تغییر توان rf قابل کنترل است. با افزایش توان rf، نرخ لایه نشانی افزایش می یابد که منجر به تغییر خوا...

در این پروژه خواص حسگری گازی اکسید کادمیم ساخته شده به روش لایه نشانی الکتروفورتیک جریان متناوب فرکانس اندک در مقابل گازهای آلاینده CO و NO2مورد بررسی قرار گرفت. برای این منظور در ابتدا پارامترهای لایه نشانی اکسید کادمیم شامل محیط و فرکانس لایه نشانی در نحوه نشست بر روی الکترودهای از جنس طلا مورد بررسی قرار گرفت. تصاویر میکروسکوپ نوری و میکروسکوپ الکترونی روبشی نشان می دهد که نشست حاصل از سوسپا...