در این تحقیق، پارچه پلی­استری با پوششی از نانوذرات پلی (3- آلکیل­تیوفن) به روش پلیمرشدن شیمیایی و لایه نشانی بخار شیمیایی تهیه شده است. پوشش­دهی منسوج  در محفظه پلیمرشدن در مدت زمان مشخص و دمای مورد نیاز (°c40 و h 8 در پلیمرشدن همزمان و°c65 و h2 در روش لایه نشانی بخار شیمیایی) انجام شده است. مقاومت سطحی نمونه­های پوشش­دهی شده توسط ولت متر دیجیتال اندازه­گیری شده است که درروش لایه نشانی بخار شیم...

در این تحقیق، پارچه پلی­استری با پوششی از نانوذرات پلی (3- آلکیل­تیوفن) به روش پلیمرشدن شیمیایی و لایه نشانی بخار شیمیایی تهیه شده است. پوشش­دهی منسوج  در محفظه پلیمرشدن در مدت زمان مشخص و دمای مورد نیاز (°C40 و h 8 در پلیمرشدن همزمان و°C65 و h2 در روش لایه نشانی بخار شیمیایی) انجام شده است. مقاومت سطحی نمونه­های پوشش­دهی شده توسط ولت متر دیجیتال اندازه­گیری شده است که درروش لایه نشانی بخار شیم...

در این تحقیق، پارچه پلی­استری با پوششی از نانوذرات پلی (3- آلکیل­تیوفن) به روش پلیمرشدن شیمیایی و لایه نشانی بخار شیمیایی تهیه شده است. پوشش­دهی منسوج  در محفظه پلیمرشدن در مدت زمان مشخص و دمای مورد نیاز (°c40 و h 8 در پلیمرشدن همزمان و°c65 و h2 در روش لایه نشانی بخار شیمیایی) انجام شده است. مقاومت سطحی نمونه­های پوشش­دهی شده توسط ولت متر دیجیتال اندازه­گیری شده است که درروش لایه نشانی بخار شیم...

در این تحقیق لایه های نازک نیمرسانای اکسید قلع به روش بخار شیمیایی بر روی بسترهای شیشه ای تهیه شده است. سپس اثر شار اکسیژن و زمان لایه نشانی بر روی خواص ساختاری، الکتریکی و اپتیکی لایه های نازک مورد مطالعه قرار گرفته است.لایه های تهیه شده توسط پراش پرتو ایکس (xrd)، میکروسکو‍‍‍پ الکترونی روبشیاثر میدان (fesem)و جذب نوری (uv-vis)مشخصه یابی شده اند. لایه ها دارای خواص بس بلور و یکنواخت با جهت گیری...

کار بر روی پروژه "شبیه سازی، طراحی و تهیه ی اجزای مورد نیاز برای ساخت سامانه ی لایه نشانی pecvd"، با هدف لایه نشانی اکسیدسیلیکون به عنوان لایه ی محافظ در قطعات الکترونیک آغاز شد. در مراحل ابتداییِ تحقیق مشخص شد که اغلب لایه های دی الکتریک موجود در تکنولوژی مدارات مجتمع، از جمله دی الکتریک بین لایه ها، اکسید میدان، لایه های محافظ و حتی در مواردی اکسید گیت، با روش های لایه نشانی بخار شیمیایی در مح...

لایه نشانی شیمیایی بخار یک ماده ی پلیمری (پلی کربوسیلان) در یک رآکتور استوانه ای و در فشار جو با استفاده از گاز آرگون، به عنوان گاز حامل، برای تولید فیلم نازک سیلیکون کرباید، شبیه سازی شده است. شبیه سازی به صورت عددی و با به کارگیری روش حجم محدود، انجام شده است. تاثیر پارامترهای کسرجرمی ورودی، عدد رینولدز ورودی، دمای زیرلایه، فاصله ی زیرلایه از ورودی، دمای دیواره ی رآکتور، دمای مخلوط ورودی، و ...

پلی (3- آلکیل تیوفن) دارای خواصی مانند پایداری محیطی، راحتی سنتز، هدایت الکتریکی بالا و خواص کرومیکی می باشند و در چند دهه اخیر توجه بسیاری به خود جلب کرده اند که دارای کاربردهای نظامی و پزشکی بسیاری هستند. در این تحقیق اثر عوامل موثر در فرآیندلایه نشانی بخار شیمیایی و پلیمریزاسیون همزمان بر میزان هدایت الکتریکی و مورفولوژی سطحی مورد بحث و بررسی قرار گرفت. روش طراحی آزمایش به منظور بهینه سازی ا...

چکیده: در این رساله، اثر توان rf بر خواص لایه ی نازک sio2 بررسی شده است. دی اکسید سیلیکان با روش لایه نشانی بخار شیمیایی بکمک پلاسما بر زیرلایه ی gaas انباشت می شود. از این لایه بعنوان لایه ی دی الکتریک در افزاره های متشکل از ساختار فلز - اکسید – نیمرسانا (mos) استفاده می شود. مشخصه های لایه با تغییر توان rf قابل کنترل است. با افزایش توان rf، نرخ لایه نشانی افزایش می یابد که منجر به تغییر خوا...

لایه نشانی متوالی لایه های فوق نازک نانومتری ترکیبات سیلیکونی نیترید سیلیسیم، پلی سیلیکون و دی اکسید سیلیسیم به روش لایه نشانی شیمیایی از فاز بخار در فشار پایین (lpcvd) و بررسی خواص لایه ها، سینتیک و ترمودینامیک تشکیل آنها هدف نهایی این پروژه کارشناسی ارشد است. مواد اولیه مورد استفاده درلایه نشانی ها عبارتند از تری کلرو سیلان (tcs) ، دی کلرو سیلان (dcs) ، سیلان(sih4) ، نیتروژن(n2) ، اکسیژن (o2)...

در حال حاضر، تکنیک‌های متعددی جهت ایجاد پوشش‌های با کیفیت و دارای خواص ویژه، بر سطح منسوجات مورد استفاده قرار می‌گیرند. در سال‌های اخیر علاوه بر روش‌های معمول، تکنولوژی‌های جدیدی معرفی شده‌اند که می‌توانند سطوح هوشمندی را بر سطح منسوجات به وجود آورند که در حال حاضر برای صنعت نساجی شناخته شده نیستند. در طی چند دهه ی گذشته، کاهش سایز به محدوده‌ی نانومتر، یکی از مهمترین جهت گیری‌های پیشرفت علم و ت...