ضریب شکست نور یکی از ثوابت مهم در طراحی لایه‌های نازک اپتیکی است و بسته به ضخامت،  دانسیته لایه، شبکه کریستالی و عیوب داخلی تغییر می‌کند. امواج الکترومغناطیسی تابشی بر روی سطح لایه به تناسب ضریب شکست در مقادیر مختلف، جذب، منعکس و یا عبور می‌کند و مقداری از آن نیز بدلیل معایب سطحی و داخلی لایه پراکنده می‌شود. لایه‌های نازک سیلیکا بصورت منفرد و یا در ترکیب با سایر اکسیدها در تولید خواص اپتیکی کار...

در این پایان نامه لایه نشانی sio2 روی ویفر سیلیکان با سه روش تبخیر پرتو الکترونی، بخار شیمیایی و اکسیداسیون گرمایی گزارش شده است. هدف از این لایه نشانی ایجاد یک لایه ی محافظ به منظور ساخت موجبر نوری از جنس نانوسیم های zno می باشد. موجبر تشکیل شده از نانوسیم های zno محیط مناسبی برای انتشار امواج نوری و ساخت نانولیزرهاست که در قطعه های گسیلنده نور و در مدارهای مجتمع نوری مورد استفاده قرار می گیرد...

sio2در این مقاله به بررسی رفتار نوری لایه های نازک (teos )تهیه شده به روش سل ژل چرخشی با استفاده از پیش ماده تترااتیل اورتوسیلیکات ، در دماهای مختلف(600– 400) درجه سانتی گراد پرداخته شده uv-vis است. از نتایج حاصل از آزمون برای به دست آوردن لبه جذب و گاف انرژی لایه ها و از آزمون بیضی سنجی (الیپسومتری)  برای به دست آورن ضریب شکست نوری و ضرایب دی الکتریک آنها استفاده شد. نتایج نشان داد که لایه های...

اسمزمستقیم فرآیندی است که در دهه های اخیر مورد توجه فراوانی قرار گرفته است. اسمزمستقیم یک فرآیند جداسازی غشایی است که بر خلاف فرآیند اسمز معکوس از اختلاف فشار اسمزی (اختلاف غلظت) در دو سمت غشا بهره می برد و سبب انتقال آب از غشای نیمه تراوا می گردد.بنابراین اسمز مستقیم به دلیل مزایای زیادی از جمله گرفتگی اندک غشا و هزینه پایین عملیاتی در مقایسه با اسمز معکوس در دهه های اخیر مورد توجه زیادی قرار ...

یکی از روش‌های افزایشبازدهی جمع کننده‌های خورشیدی در نیروگاه‌های حرارتی ایجاد پوشش‌هایضد بازتاب بر سطح شیشه‌های محافظ دریافت کننده هایخورشیدی می‌باشد. در پژوهش حاضر،پوشش‌های تک لایه، دو لایه، چندلایه و کامپوزیت سیلیکا و تیتانیا تهیه شده به روش سل-ژل بر سطح شیشه به‌منظور کاربرد ضدبازتابی بررسی گردید.برایبررسی پوشش‌ها از طیف‌نگاری عبور(UV-VIS)، مادون‌قرمز(FT-IR)و میکروسکوپ الکترونی روبشی(FE-SEM)ا...

فرآیند اسمز مستقیم به دلیل کاهش مصرف انرژی در نمک زدایی مورد توجه فراوانی قرار گرفته است. اما قطبش غلظتی داخلی، به عنوان یکی از محدودیت هایی که می تواند فلاکس آب عبوری از غشا اسمز مستقیم را به مقدار قابل توجهی کاهش دهد، در نظر گرفته می شود. در این پروژه غشا لایه نازک کامپوزیتی به منظور استفاده در فرآیند اسمز مستقیم به روش پلیمریزاسیون سطحی بر روی زیرلایه پلی سولفونی سنتز شد. شرایط مختلف ساخت غش...

در این تحقیق، سیستم لایه نازک 2 ag-sio با غلظتهای مختلف نقره (2/0%، 4/0%، 6/1% و 8%) بر سطح زیرلایه soda-lime ساخته شدند. پس از مرحله پخت نمونه ها، بررسی خواص فیزیکی و شیمیایی لایه های نازک سیلیکا (2 sio ) حاوی نانوذرات نقره، توسط اندازه گیریهای اپتیکی برای تعیین خواص نوری لایه ها، توپوگرافی و ریزساختار نمونه ها توسط میکروسکوپ نیروی اتمی ) (afm و میکروسکوپ الکترونی روبشی (sem) ، اندازه گیری دقی...

در این تحقیق لایه های نازک نانوکامپوزیت اکسید روی – سیلیکا تهیه شدند و سطوح سنتز شده از نظر خواص فیزیکی و شیمیایی و عوامل موثر بر خواص سطوح مورد ارزیابی و مشخصه یابی قرارگرفتند. تهیه ی لایه های نازک از طریق سل- ژل با استفاده از موادی از جمله زینک استات دی هیدرات ، اتانول، اسید نیتریک، آب و تترا اتیل اورتوسیلیکات، به روش لایه نشانی چرخشی بر روی زیرلایه شیشه¬ای انجام و لایه-های نازک بدست آمده در ...

پوشاننده های دی اکسید تیتانیوم با قابلیت فعل و انفعالات وابسته به نور به خاطر رفتار خود تمیز شونده ی بسیار عالی، معروفند، جاییکه لایه بسیار نازک آب روی سطوح آبدوست تشکیل میشوند، آنها میتوانند به راحتی ذرات آلودگی را بشویند و از بین ببرند. در اینجا ما آماده سازی شفافیت و چسبندگی بصری آب و کاورهای دی اکسید تیتانیوم-دی اکسید سیلیکون را روی سطوح مختلف جهت ویژگیهای خود تمیزشوندگی گزارش میکنیم. لایه ...