نتایج جستجو برای: زدایش یون فعال rie
تعداد نتایج: 33507 فیلتر نتایج به سال:
این مطالعه جهت بررسی تأثیر محلول های فعال کننده واجد غلظت های مختلف کلسیم، منیزیم و تغییر pH در محلول استاندارد لقاح بیلارد بر میزان تحرک اسپرم قزل آلای خال قرمز انجام شد. مولدین نر پس از صید و بیهوشی اسپرم گیری شدند. تمام نمونه های اسپرم در ادامه با یکدیگر مخلوط شده و میزان تراکم اسپرم و اسپرماتوکریت آن به ترتیب برابر 0/87±10/30 میلیارد در میلی لیتر و 0/23±58/0 درصد محاسبه شد. محلول های فعال ک...
We developed a maskless plasma texturing technique for multicrystalline silicon (mc-Si) cells using Reactive Ion Etching (RIE) that results in higher cell performance than that of standard untextured cells. Elimination of plasma damage has been achieved while keeping front reflectance to extremely low levels. Internal quantum efficiencies as high as those on planar cells have been obtained, boo...
A maskless plasma textu~ring technique using Reactive Ion Etching for silicon solar cells results in a very low reflectance of 5.4 % before and 3.9 % after SiN deposition. A detailed study of surface recombination and emitter properties was made, then solar cells were fabricated using the DOSS solar cell process. Different plasmadamage removal treatments are tested to optimize low lifetime sola...
برخلاف سیلیکن توده که به دلیل ساختار گاف انرژی غیر مستقیم فاقد کارایی لازم برای ادوارت الکترونیک نوری است نانو ساختارهای سیلیکنی امکان تابش خودبخودی را به دلیل بازترکیب حاملها فراهم می آورند و لذا در ادورات گسیل کننده نور مبتنی بر سیلیکن حایز اهمیت بسیار هستند در این گزارش ساخت سیلیکن متخلخل به عنوان یکی از مهمترین نانو ساختارهای سیلیکنی به روش زدایش شیمیایی در مخلوط اسید هیدروفلوئوریک و اسید ن...
این مقاله به بررسی و تحلیل رفتاری لایه برداری سطحی ناهمسانگرد سیلیکون (100) در هیدروکسید آمونیم تترامتیل(tmah) پرداخته است. فرآیند حکاکی در محلول tmah با غلظتهای مختلف 5%، 10%، 15% و 25% و در دماهای مختلف oc 70، oc 80 و oc90 انجام شد. نتایج نشان میدهد که نرخ زدایش با افزایش دما، افزایش مییابد ولی این نرخ با افزایش غلظت tmah در غلظتهای بیشتر از 10% کاهش مییابد. بیشترین نرخ زدایش برابر با ...
زمینه و هدف: از مهمترین خصوصیات کیفی در ارتباط با استفاده مجدد پساب، کیفیت میکروبی و شیمایی آن میباشد. هدف از این مطالعه تعیین کارایی تصفیهخانه فاضلاب کرمانشاه (سیستم لجن فعال متعارف) و قصر شیرین (سیستم نیزار مصنوعی) در حذف کیست تک یاخته و تخم انگل به منظور استفاده مجدد در آبیاری کشاورزی میباشد. روش کار: در این تحقیق در مدت 6 ماه و بهصورت هفتگی از ورودی و خروجی تصفیهخانهها نمونهبرداری ش...
زمینه و هدف: فلزات سنگین، به عنوان عناصر دارای خواص سمی شناخته شده اند و تخلیه آنها به منابع آب، باعث آسیب جدّی به سلامتی انسان ها و محیط زیست می شود. این مطالعه، به منظور تولید کربن فعال از تایرهای فرسوده و کاربرد آن در حذف یون های سرب از محلول سنتتیک انجام شد. روش تحقیق: در این تحقیق تجربی، از تایرهای فرسوده، کربن فعال پودری تهیه شد. اثر غلظت یون های سرب (10 تا 100 میلی گرم بر لیتر)، ph (2 تا ...
Soft lithography allows for the simple and low-cost fabrication of nanopatterns with different shapes and sizes over large areas. However, the resolution and the aspect ratio of the nanostructures fabricated by soft lithography are limited by the depth and the physical properties of the stamp. In this work, silicon nanobelts and nanostructures were achieved by combining soft nanolithography pat...
نمودار تعداد نتایج جستجو در هر سال
با کلیک روی نمودار نتایج را به سال انتشار فیلتر کنید