نتایج جستجو برای: ترانزیستور finfet

تعداد نتایج: 1014  

Journal: :Microelectronics Journal 2009
Sherif A. Tawfik Volkan Kursun

Scaling of single-gate MOSFET faces great challenges in the nanometer regime due to the severe shortchannel effects that cause an exponential increase in the sub-threshold and gate-oxide leakage currents. Double-gate FinFET technology mitigates these limitations by the excellent control over a thin silicon body by two electrically coupled gates. In this paper a variable threshold voltage keeper...

2012
Rajiv Gandhi

The effect of gate – drain/source underlap (Lun) on a narrow band LNA performance has been studied, in 30 nm FinFET using device and mixed mode simulations. Studies are sssssdone by maintaining and not maintaining the leakage current (Ioff) and threshold voltage (Vth) of the various devices. LNA circuit with two transistors in a cascode arrangement is constructed and the input impedance, gain a...

2012
SUMANLATA TRIPATHI RAMANUJ MISHRA SANDEEP MISHRA VIRENDRA PRATAP

This paper describes the characteristics comparison of bulk FINFET and SOI FINFET. The scaling trend in device dimension require limit on short channel effect through the control of subthreshold slope and DIBL characteristics.It can be achieved by proper device design. The subthreshold characteristics are plotted with the variation of gate voltage for different doping profile .This paper also c...

1999
Xuejue Huang Wen-Chin Lee Charles Kuo Digh Hisamoto Leland Chang Jakub Kedzierski Erik Anderson Hideki Takeuchi Yang-Kyu Choi Kazuya Asano Vivek Subramanian Tsu-Jae King Jeffrey Bokor Chenming Hu

High performance PMOSFETs with a gate length as short as 18-nm are reported. A self-aligned double-gate MOSFET structure (FinFET) is used to suppress the short channel effect. The 45 nm gate-length PMOS FinFET has an Idsat of 410 PA/Pm (or 820 PA/Pm depending on the definition of the width of a double-gate device) at Vd = Vg = 1.2 V and Tox = 2.5 nm. The quasi-planar nature of this variant of t...

ژورنال: نشریه هیدروفیزیک 2019

در این مقاله ساختاری نوین برای  طراحی و ساخت هیدروفن‌های حساس باندپهن فرکانس پایین ارائه شده است. ساختار پیشنهادی از یک ترانزیستور با گیت معلق تشکیل شده‌است. با برخورد امواج آکوستیکی به گیت معلقی که روی یک ترانزیستور اثر میدانی قرار دارد، فاصله بین گیت و کانال ترانزیستور و به‌تبع آن ظرفیت خازنی معادل بین گیت و کانال ترانزیستور تغییر می‌کند که این امر به تغییر در جریان و ولتاژ خروجی ترانزیستور م...

Journal: :Solid-state Electronics 2021

A comprehensive study of the scaling negative capacitance FinFET (NC-FinFET) is conducted with TCAD. We show that NC-FinFET can be scaled to "2.1nm node" and almost "1.5nm comes two nodes after industry "3nm node," which has 16nm Lg last node according International Roadmap for Devices Systems (IRDS). In addition, intervening nodes, meet IRDS Ion Ioff target at target-beating VDD. The benefits ...

2016
Aman Kumar Bobbinpreet Kaur Mamta Arora Yuhua Cheng Chenming Hu Debajit Bhattacharya Niraj K. Jha J. P. Sun Wei Wang Toru Toyabe S. Tang L. Chang N. Lindert

The presentation of FinFET Technology has opened new sections in Nano-innovation. The arrangement of ultra-thin fin empowers stifled short channel effects. It is an alluring successor to the single gate MOSFET by the righteousness of its prevalent electrostatic properties and relative simplicity of manufacturability. Fin type field-impact transistors (FinFETs) are promising substitutes for mass...

2009
Chenyue Ma Jin He Bo Li Lining Zhang Jian Zhang Xinnan Lin

A modeling study of dynamic threshold voltage in high K gate stack is reported in this paper. Both slow transient (STCE) and fast transient charging effect (FTCE) are included in this model. Finally, this model is applied in FinFET reliability and circuit performances are simulated. The result shows that, the drain circuit (Id) degradation in FinFET is much more obvious than normal MOSFETs with...

ژورنال: :مهندسی برق و الکترونیک ایران 0
زینب ظهیری z. zahiri سید ابراهیم حسینی s. e. hosseini بهنام کبیریان دهکردی b. kabirian dehkordi

در این مقاله یک ساختار جدید ترانزیستور دو قطبی بر اساس وارونگی سطحی ارائه می­شود. در این ساختار پیوند کلکتور-بیس یک پیوند متداول p-n است، اما ناخالصی امیتر حذف شده است. به عبارت دیگر ترانزیستور فقط با استفاده از دو ناحیه n و p طراحی شده است. با اتصال فلز با تابع کار مناسب به نیمه هادی نوع p، ناحیه n+  امیتر توسط وارونگی سطحی در داخل ناحیه بیس تشکیل می شود. شبیه سازی نشان می دهد ترانزیستور ارائه...

ژورنال: نشریه هیدروفیزیک 2020

در این مقاله یک هیدروفن با استفاده از ترانزیستور گیت معلق دندانه شانه ای در فرکانس‌های پایین طراحی و شبیه‌سازی شده است. مکانیزم عملکرد این مبدل بر اساس تغییر خازن گیت-سورس در ترانزیستور ماسفت است. گیت ترانزیستور توسط دو میله به صورت معلق بالای کانال ترانزیستور قرار گرفته است. در پاسخ به موج آکوستیکی ورودی، گیت ترانزیستور دچار خمش شده و منجر به تغییر ظرفیت خازن گیت-سورس می‌شود. در نتیجه موج آکوس...

نمودار تعداد نتایج جستجو در هر سال

با کلیک روی نمودار نتایج را به سال انتشار فیلتر کنید