از زمانی که مطابق قانون مور, بکارگیری اکسیدسیلیکون حدود یک نانومتر برای نانوترانزیستورهای اثرمیدان ناممکن شده است.دی الکتریک های بسیاری نظیر اکسید و نیترید آلومینیوم اکسید زیرکونیوم,اکسید هافنیوم, اکسید تیتانیوم و مواد پلیمری مطرح شده اند. مطالعات بسیاری در دهه اخیر صورت گرفته است تا قابلیت اینگونه فیلم ها را به عنوان یک کاندیدای مناسب در تولیدات آتی قطعات الکترونیکی را بررسی کند. تقریبا تمام ا...

در تحقیق حاضر نقش افزودنی آهن بر سنتز نیترید سیلیسیوم به روش کربوترمال و نیتریداسیون از پیش سازه  سیلیکاتی mcm-48 و عامل کربنی ساکاروز بررسی شد. ابتدا مزوحفره سیلیکاتی سنتز گردید. سپس با استفاده از انحلال mcm-48 و ساکاروز در آب دو بار تقطیر و خشک نمودن رسوبحاصله، مخلوط های دو تایی آماده شد. جهت بررسی نقش آهن، با افزودن آهن در محدوده یک، دو و سه درصد وزنی به مخلوط فوق، سیستم های سه تایی نیز آماد...

کامپوزیت های zrb2-sic که با 0، 1، 3 و 5 درصد وزنی کمک زینتر سیالون و نیترید آلومینیم (به طور جداگانه) با فرآیندهای پرس گرم (تحت فشار اندک 10 مگاپاسکال) و تفجوشی بدون فشار در دمای 1900 درجه سانتی گراد به مدت 2 ساعت آماده شدند. تاثیر افزودن sialon و aln بر پیشرفت فرآیند چگال شدن و ریزساختار چنین کامپوزیت هایی با روش شکست نگاری شناسایی شد. در مورد sialon، چندین واکنش شیمیایی برای نشان دادن ساز و ...

در تحقیق حاضر نقش افزودنی آهن بر سنتز نیترید سیلیسیوم به روش کربوترمال و نیتریداسیون از پیش سازه  سیلیکاتی MCM-48 و عامل کربنی ساکاروز بررسی شد. ابتدا مزوحفره سیلیکاتی سنتز گردید. سپس با استفاده از انحلال MCM-48 و ساکاروز در آب دو بار تقطیر و خشک نمودن رسوبحاصله، مخلوط های دو تایی آماده شد. جهت بررسی نقش آهن، با افزودن آهن در محدوده یک، دو و سه درصد وزنی به مخلوط فوق، سیستم های سه تایی نیز آماد...

�لایه های نازک نیترید سیلیکون برروی زیرلایه بس کریستال سیلیکون و شیشه نازک بااستفاده از روش کندوپاش RF لایه نشانی شده اند. لایه نشانی یک بار در محیط گاز آرگن و بار دیگر در محیط گاز نیتروژن انجام شده� است. با تغییر توان لایه نشانی نسبت نیتروژن و سیلیکون موجود در لایه تغییرمی کند و لایه هایی با خواص نوری متفاوت به دست می آید. تأثیرات ناشی از تغییرات توان RF برروی خواص نوری و ترکیبات موجود در لایه...

در این مقاله، خواص الکتریکی گرافین و بورن نیترید دو بعدی مورد مطالعه قرار گرفته است. تاثیر وجود لایه‌ها روی همدیگر و هم‌چنین پیچش لایه‌ها روی همدیگر مطالعه می‌شود. وجود لایه-ی اضافه موجب ایجاد تراز‌هایی اضافه می‌شود که در مورد گرافین همچنان رسانندگی این ماده را حفظ می‌کند ولی تحرک پذیری آن را به شدت کم می‌کند. اثر پیچش در گرافین و بورن نیترید موجب افزایش تعداد نوار‌های انرژی به هشت عدد می‌شود ک...

ریختهگری ژلهای روش جدید و جذاب شکلدهی سرامیکها است که جهت تولید قطعات با کیفیت بالا و پیچیده مورد استفاده قرار میگیرد. این روش ترکیبی از روشهای شکلدهی سرامیکهای سنتی و شیمی پلیمر است که از سال 1987 میلادی مورد توجه جدی قرار گرفته و به روشی با قابلیت بالا برای تولید قطعات مهندسی مورد استفاده قرار گرفته است. دوغاب حاوی پودر سرامیکی، مونومرهای آلی حلال به داخل قالب ریخته شده و پلیمریزه میشود. ...

زمینه و هدف: کلبسیلا اکسی توکا به عنوان پاتوژن فرصت طلب با تولید سایتوتوکسین باعث تخریب اپتلیال روده میشود. یکی ازعوامل پاتوژنز این باکتری سیتوتوکسین است که جزء فاکتورهای مهم ویرولانس این باکتری بوده و بابیماریزایی کلبسیلا اکسی توکا مرتبط است. این مطالعه با هدف بررسی شیوع وتعیین الگوی حساسیت آنتی بیوتیکی سویه های کلبسیلا اکسی توکا  جدا شده از نمونه های بالینی بیماران بستری وسرپایی انجام شد. روش...

با استفاده از روش تئوری تابع دانسیته، تأثیر نقص استون- والز روی خواص ساختاری و الکترونی نانولوله ی بور نیترید تک دیواره ی زیگزاگ (6,0) تحت کشش و فشردگی محوری، در سطح محاسباتی b3lyp/6-31+g(d) بررسی شد. انرژی اتصال محاسبه شده برای نانولوله ی بور نیترید دارای نقص استون- والز، کوچکتر از نانولوله ی بور نیترید بی نقص ارزیابی شد. در نانولوله ی بور نیترید دارای نقص استون- والز، ناحیه ی نقص به عنوان یک ...

سازه های مرکب ساخته شده از گرافن و برن نیترید کلاس جدیدی از مواد هستند که خواص مکملی آنها، این مواد را برای محدوده وسیعی از کاربردها از جمله سازه های الکترونیکی مناسب می گرداند. با توجه به مطالعات اندکی که پیرامون رفتار مکانیکی نانوصفحات مرکب تک لایه و ترکیبی-لایه ای متشکل از برن نیترید و گرافن شده است، این مطالعه به بررسی ارتعاشات جانبی صفحات تک لایه و چند لایه با معماریهای متفاوت گرافن/برن نی...